PSS-Ätzträgertablett für die Waferverarbeitung

Das PSS-Ätzträgertablett für die Waferverarbeitung von Semicorex wurde speziell für anspruchsvolle Epitaxiegeräteanwendungen entwickelt. Unser hochreiner Graphitträger ist ideal für Dünnschichtabscheidungsphasen wie MOCVD, Epitaxie-Suszeptoren, Pancake- oder Satellitenplattformen und Wafer-Handhabungsprozesse wie Ätzen. Das PSS-Ätzträgertablett für die Waferverarbeitung verfügt über eine hohe Hitze- und Korrosionsbeständigkeit, hervorragende Wärmeverteilungseigenschaften und eine hohe Wärmeleitfähigkeit. Unsere Produkte sind kostengünstig und haben einen guten Preisvorteil. Wir beliefern viele europäische und amerikanische Märkte und freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.

Anfrage absenden

Produktbeschreibung

Das PSS-Ätzträgertablett für die Waferverarbeitung von Semicorex wurde für raue Umgebungen entwickelt, die für epitaktisches Wachstum und Waferhandhabungsprozesse erforderlich sind. Unser ultrareiner Graphitträger ist für die Unterstützung von Wafern während Dünnschichtabscheidungsphasen wie MOCVD und Epitaxie-Suszeptoren, Pancake- oder Satellitenplattformen konzipiert. Der mit SiC beschichtete Träger weist eine hohe Hitze- und Korrosionsbeständigkeit, hervorragende Wärmeverteilungseigenschaften und eine hohe Wärmeleitfähigkeit auf. Unsere Produkte sind kostengünstig und bieten einen guten Preisvorteil.

Parameter des PSS-Ätzträgertabletts für die Waferverarbeitung

Hauptspezifikationen der CVD-SIC-Beschichtung
SiC-CVD-Eigenschaften
Kristallstruktur	FCC-β-Phase
Dichte	g/cm³	3.21
Härte	Vickershärte	2500
Körnung	μm	2~10
Chemische Reinheit	%	99.99995
Wärmekapazität	J kg-1 K-1	640
Sublimationstemperatur	℃	2700
Biegekraft	MPa (RT 4-Punkt)	415
Elastizitätsmodul	Gpa (4-Punkt-Biegung, 1300 ℃)	430
Wärmeausdehnung (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Wärmeleitfähigkeit	(W/mK)	300