Siliziumkarbidkeramik (SiC) ist ein fortschrittliches Keramikmaterial, das Silizium und Kohlenstoff enthält. Körner aus Siliziumkarbid können durch Sintern zu sehr harten Keramiken verbunden werden. Semicorex liefert maßgeschneiderte Siliziumkarbidkeramik nach Ihren Wünschen.
Anwendungen
Bei Siliziumkarbidkeramik bleiben die Materialeigenschaften bis zu Temperaturen über 1.400 °C konstant. Der hohe Elastizitätsmodul > 400 GPa sorgt für eine hervorragende Dimensionsstabilität.
Eine typische Anwendung für Bauteile aus Siliziumkarbid ist die dynamische Dichtungstechnik mit Gleitlagern und Gleitringdichtungen, beispielsweise in Pumpen und Antriebssystemen.
Aufgrund der fortschrittlichen Eigenschaften eignen sich Siliziumkarbidkeramiken auch ideal für den Einsatz in der Halbleiterindustrie.
Wafer-Boote →
Das Semicorex Wafer Boat besteht aus gesinterter Siliziumkarbidkeramik, die eine gute Korrosionsbeständigkeit und eine ausgezeichnete Beständigkeit gegen hohe Temperaturen und Thermoschock aufweist. Fortschrittliche Keramik bietet eine hervorragende thermische Beständigkeit und Plasmabeständigkeit und reduziert gleichzeitig Partikel und Verunreinigungen für Waferträger mit hoher Kapazität.
Reaktionsgesintertes Siliziumkarbid
Im Vergleich zu anderen Sinterverfahren ist die Größenänderung beim Reaktionssintern während des Verdichtungsprozesses gering und es können Produkte mit präzisen Abmessungen hergestellt werden. Das Vorhandensein einer großen Menge SiC im Sinterkörper verschlechtert jedoch die Hochtemperaturleistung von reaktionsgesinterten SiC-Keramiken.
Drucklos gesintertes Siliziumkarbid
Drucklos gesintertes Siliziumkarbid (SSiC) ist eine besonders leichte und zugleich harte Hochleistungskeramik. SSiC zeichnet sich durch eine hohe Festigkeit aus, die auch bei extremen Temperaturen nahezu konstant bleibt.
Rekristallines Siliziumkarbid
Rekristallisiertes Siliziumkarbid (RSiC) sind Materialien der nächsten Generation, die durch Mischen von hochreinem Siliziumkarbid-Grobpulver und hochaktivem Siliziumkarbid-Feinpulver und nach dem Verfugen durch Vakuumsintern bei 2450 ° C zur Rekristallisation entstehen.
Semicorex SIC-Oxidationsrohr ist eine Hochleistungskomponente, die in sic-Rohröfen für die thermische Verarbeitung fortschrittlicher Halbleiter verwendet wird. Es ist für langfristige Stabilität unter extremen Bedingungen ausgelegt. Wählen Sie Semicorex für unsere überlegene Materialreinheit, die enge dimensionale Kontrolle und die konsistente Produktqualität, wodurch Sie bei jedem Hochtemperaturlauf optimale Ergebnisse erzielen.**
WeiterlesenAnfrage absendenSemicorex Silicon Carbid Vacuum Chuck ist eine Hochleistungs-Waferhandhabungslösung, die aus poröser Siliziumcarbid gefertigt wurde. Es ist speziell für die Vakuumadsorption von Halbleiterwafern während kritischer Prozesse wie Montage (Wachsen), Ausdünnen, Entwaxen, Reinigung, Würfeln und schnelles thermisches Tempern (RTA) entwickelt. Wählen Sie Semicorex für unübertroffene materielle Reinheit, dimensionale Präzision und zuverlässige Leistung in der anspruchsvollen Halbleiterumgebung.*
WeiterlesenAnfrage absendenSemicorex Porous SIC Chuck ist ein Hochleistungskeramik-Vakuum-Chuck für die sichere Adsorption der sicheren Wafer bei der Verarbeitung der Halbleiter. Die konstruierte mikroporöse Struktur sorgt für eine hervorragende Vakuumverteilung und sorgt für Präzisionsanwendungen ideal.*
WeiterlesenAnfrage absendenSemicorex-Vakuum-Chucks sind Hochleistungskeramikvorrichtungen zur sicheren Waferadsorption bei der Herstellung von Halbleiter. Mit überlegenen thermischen, mechanischen und chemischen Eigenschaften gewährleistet es Stabilität und Präzision in anspruchsvollen Prozessumgebungen.*
WeiterlesenAnfrage absendenSemicorex Sic Cantilever Paddles sind Hochleistungs-Silizium-Carbid-Ausleger-Paddel, die in der thermischen Verarbeitungsgeräte mit Halbleiter verwendet werden und für die stabile Waferhandhabung in Hochtemperaturumgebungen ausgelegt sind. Auswahl von Semicorex bedeutet die Auswahl von Materialien, hervorragende thermische Stabilität und branchenführende Präzisionsherstellungstechnologie, um sicherzustellen, dass jeder kritische Prozess stabil und zuverlässig ist.*
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