Siliziumkarbidkeramik (SiC) ist ein fortschrittliches Keramikmaterial, das Silizium und Kohlenstoff enthält. Körner aus Siliziumkarbid können durch Sintern zu sehr harten Keramiken verbunden werden. Semicorex liefert maßgeschneiderte Siliziumkarbidkeramik nach Ihren Wünschen.
Anwendungen
Bei Siliziumkarbidkeramik bleiben die Materialeigenschaften bis zu Temperaturen über 1.400 °C konstant. Der hohe Elastizitätsmodul > 400 GPa sorgt für eine hervorragende Dimensionsstabilität.
Eine typische Anwendung für Bauteile aus Siliziumkarbid ist die dynamische Dichtungstechnik mit Gleitlagern und Gleitringdichtungen, beispielsweise in Pumpen und Antriebssystemen.
Aufgrund der fortschrittlichen Eigenschaften eignen sich Siliziumkarbidkeramiken auch ideal für den Einsatz in der Halbleiterindustrie.
Wafer-Boote →
Das Semicorex Wafer Boat besteht aus gesinterter Siliziumkarbidkeramik, die eine gute Korrosionsbeständigkeit und eine ausgezeichnete Beständigkeit gegen hohe Temperaturen und Thermoschock aufweist. Fortschrittliche Keramik bietet eine hervorragende thermische Beständigkeit und Plasmabeständigkeit und reduziert gleichzeitig Partikel und Verunreinigungen für Waferträger mit hoher Kapazität.
Reaktionsgesintertes Siliziumkarbid
Im Vergleich zu anderen Sinterverfahren ist die Größenänderung beim Reaktionssintern während des Verdichtungsprozesses gering und es können Produkte mit präzisen Abmessungen hergestellt werden. Das Vorhandensein einer großen Menge SiC im Sinterkörper verschlechtert jedoch die Hochtemperaturleistung von reaktionsgesinterten SiC-Keramiken.
Drucklos gesintertes Siliziumkarbid
Drucklos gesintertes Siliziumkarbid (SSiC) ist eine besonders leichte und zugleich harte Hochleistungskeramik. SSiC zeichnet sich durch eine hohe Festigkeit aus, die auch bei extremen Temperaturen nahezu konstant bleibt.
Rekristallines Siliziumkarbid
Rekristallisiertes Siliziumkarbid (RSiC) sind Materialien der nächsten Generation, die durch Mischen von hochreinem Siliziumkarbid-Grobpulver und hochaktivem Siliziumkarbid-Feinpulver und nach dem Verfugen durch Vakuumsintern bei 2450 ° C zur Rekristallisation entstehen.
Die aus hochwertigen Siliziumkarbidmaterialien hergestellten SIC-Thermoelement-Schutzrohre sind fortschrittliche Keramiklösungen, die dazu dienen, Thermoelemente vor dem normalen Betrieb in anspruchsvollen Hochtemperaturumgebungen zu schützen. Wählen Sie Semicorex für präzisionsgefertigte SIC-Thermoelement-Schutzrohre, die gleichbleibende Qualität, kostengünstige Preise und maximale Kühleffizienz gewährleisten.
WeiterlesenAnfrage absendenSiliziumkarbid-Kühlkanäle bestehen aus leistungsstarker Siliziumkarbid-Keramik und sind leistungsstarke Rohrkomponenten, die in Kühlprozessen von Hochtemperatur-Industrieöfen eingesetzt werden. Wählen Sie Semicorex für präzisionsgefertigte Kühlkanäle aus Siliziumkarbid, die gleichbleibende Qualität, kostengünstige Preise und maximale Kühleffizienz gewährleisten.
WeiterlesenAnfrage absendenDie Siliziumkarbid-ICP-Ätzplatte ist ein unverzichtbarer Waferhalter, der aus hochreiner gesinterter Siliziumkarbidkeramik hergestellt wird. Es wurde speziell von Semicorex entwickelt und dient als entscheidender Wegbereiter für Ätz- und Abscheidungssysteme mit induktiv gekoppeltem Plasma (ICP) in der hochmodernen Halbleiterindustrie.
WeiterlesenAnfrage absendenMit hervorragender Härte, ausgezeichneter Verschleißfestigkeit, bemerkenswerter Hochtemperaturbeständigkeit und starker chemischer Stabilität sind SSIC-Dichtringe zu einer unersetzlichen Dichtungslösung in modernen Bearbeitungsprozessen geworden. Es ist voll kompatibel mit anspruchsvollen, komplexen Arbeitsbedingungen wie hohen Temperaturen, hohem Druck und starker Korrosion.
WeiterlesenAnfrage absendenSemicorex SiC Fin ist eine hochreine Siliziumkarbid-Keramikkomponente, die präzise mit einer perforierten Scheibenstruktur für ein effizientes Gas- und Flüssigkeitsflussmanagement in Epitaxie- und Ätzgeräten entwickelt wurde. Semicorex liefert maßgeschneiderte, hochpräzise Komponenten, die eine überragende Haltbarkeit, chemische Beständigkeit und Leistungsstabilität in Halbleiterprozessumgebungen gewährleisten.*
WeiterlesenAnfrage absendenDie fortschrittliche SiC-Wafer-Schleifplatte von Semicorex ist das Präzisionsbearbeitungsteil zur Erzielung einer extrem hohen Ebenheit auf Halbleiter-Waferoberflächen. Die Wahl der SiC-Wafer-Schleifplatte von Semicorex geht über die Auswahl eines Hochleistungswerkzeugs hinaus, sie sichert die optimale, genaue, stabile und effiziente Lösung für Wafer-Schleifanwendungen.
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