Sie können sicher sein, dass Sie ICP Etching Carrier in unserer Fabrik kaufen. Wir bieten Ihnen den besten Kundendienst und eine pünktliche Lieferung. Der Semicorex-Wafer-Suszeptor besteht aus mit Siliziumkarbid beschichtetem Graphit im chemischen Gasphasenabscheidungsverfahren (CVD). Dieses Material verfügt über einzigartige Eigenschaften, darunter hohe Temperatur- und Chemikalienbeständigkeit, ausgezeichnete Verschleißfestigkeit, hohe Wärmeleitfähigkeit sowie hohe Festigkeit und Steifigkeit. Diese Eigenschaften machen es zu einem attraktiven Material für verschiedene Hochtemperaturanwendungen, einschließlich Ätzsystemen mit induktiv gekoppeltem Plasma (ICP).
Wir bieten maßgeschneiderten Service, helfen Ihnen bei der Innovation mit Komponenten, die länger halten, die Zykluszeiten verkürzen und die Ausbeute verbessern.
Semicorex SiC ICP Etching Disk besteht nicht nur aus Komponenten; Es ist ein wesentlicher Wegbereiter modernster Halbleiterfertigung. Da die Halbleiterindustrie ihr unermüdliches Streben nach Miniaturisierung und Leistung fortsetzt, wird die Nachfrage nach fortschrittlichen Materialien wie SiC nur noch zunehmen. Es gewährleistet die Präzision, Zuverlässigkeit und Leistung, die für den Antrieb unserer technologiegetriebenen Welt erforderlich sind. Wir bei Semicorex widmen uns der Herstellung und Lieferung leistungsstarker SiC-ICP-Ätzscheiben, die Qualität mit Kosteneffizienz verbinden.**
WeiterlesenAnfrage absendenSemicorex SiC Susceptor für ICP Etch wird mit dem Schwerpunkt auf der Aufrechterhaltung hoher Qualitäts- und Konsistenzstandards hergestellt. Die robusten Herstellungsprozesse zur Herstellung dieser Suszeptoren stellen sicher, dass jede Charge strenge Leistungskriterien erfüllt und zuverlässige und konsistente Ergebnisse beim Halbleiterätzen liefert. Darüber hinaus ist Semicorex in der Lage, schnelle Lieferpläne anzubieten, was entscheidend ist, um mit den schnellen Durchlaufzeiten der Halbleiterindustrie Schritt zu halten und sicherzustellen, dass die Produktionszeitpläne eingehalten werden, ohne Kompromisse bei der Qualität einzugehen. Wir bei Semicorex widmen uns der Herstellung und Lieferung von Hochleistungsprodukten SiC-Suszeptor für ICP-Ätzung, der Qualität mit Kosteneffizienz verei......
WeiterlesenAnfrage absendenDie SiC-beschichtete ICP-Komponente von Semicorex wurde speziell für Hochtemperatur-Wafer-Handhabungsprozesse wie Epitaxie und MOCVD entwickelt. Mit einer feinen SiC-Kristallbeschichtung bieten unsere Träger eine hervorragende Hitzebeständigkeit, gleichmäßige thermische Gleichmäßigkeit und dauerhafte chemische Beständigkeit.
WeiterlesenAnfrage absendenWenn es um Wafer-Handhabungsprozesse wie Epitaxie und MOCVD geht, ist die Hochtemperatur-SiC-Beschichtung für Plasmaätzkammern von Semicorex die erste Wahl. Unsere Träger bieten dank unserer feinen SiC-Kristallbeschichtung eine hervorragende Hitzebeständigkeit, gleichmäßige thermische Gleichmäßigkeit und dauerhafte chemische Beständigkeit.
WeiterlesenAnfrage absendenDas ICP-Plasma-Ätztablett von Semicorex wurde speziell für Hochtemperatur-Wafer-Handhabungsprozesse wie Epitaxie und MOCVD entwickelt. Mit einer stabilen Oxidationsbeständigkeit bei hohen Temperaturen von bis zu 1600 °C sorgen unsere Träger für gleichmäßige thermische Profile und laminare Gasströmungsmuster und verhindern die Diffusion von Verunreinigungen oder Verunreinigungen.
WeiterlesenAnfrage absendenDer SiC-beschichtete Träger von Semicorex für das ICP-Plasmaätzsystem ist eine zuverlässige und kostengünstige Lösung für Hochtemperatur-Wafer-Handhabungsprozesse wie Epitaxie und MOCVD. Unsere Träger verfügen über eine feine SiC-Kristallbeschichtung, die eine hervorragende Hitzebeständigkeit, gleichmäßige thermische Gleichmäßigkeit und dauerhafte chemische Beständigkeit bietet.
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