Silizium-Ätzplatte für PSS-Ätzanwendungen

Die Silizium-Ätzplatte von Semicorex für PSS-Ätzanwendungen ist ein hochwertiger, hochreiner Graphitträger, der speziell für epitaktische Wachstums- und Wafer-Handhabungsprozesse entwickelt wurde. Unser Träger hält rauen Umgebungen, hohen Temperaturen und aggressiver chemischer Reinigung stand. Die Silizium-Ätzplatte für PSS-Ätzanwendungen verfügt über hervorragende Wärmeverteilungseigenschaften, eine hohe Wärmeleitfähigkeit und ist kostengünstig. Unsere Produkte sind in vielen europäischen und amerikanischen Märkten weit verbreitet und wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.

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Produktbeschreibung

Die Silizium-Ätzplatte von Semicorex für PSS-Ätzanwendungen wurde für die anspruchsvollsten Epitaxie-Geräteanwendungen entwickelt. Unser hochreiner Graphitträger hält rauen Umgebungen, hohen Temperaturen und aggressiver chemischer Reinigung stand. Der mit SiC beschichtete Träger verfügt über hervorragende Wärmeverteilungseigenschaften, eine hohe Wärmeleitfähigkeit und ist kostengünstig.

Parameter der Siliziumätzplatte für PSS-Ätzanwendungen

Hauptspezifikationen der CVD-SIC-Beschichtung
SiC-CVD-Eigenschaften
Kristallstruktur	FCC-β-Phase
Dichte	g/cm³	3.21
Härte	Vickershärte	2500
Körnung	μm	2~10
Chemische Reinheit	%	99.99995
Wärmekapazität	J kg-1 K-1	640
Sublimationstemperatur	℃	2700
Biegekraft	MPa (RT 4-Punkt)	415
Elastizitätsmodul	Gpa (4-Punkt-Biegung, 1300 ℃)	430
Wärmeausdehnung (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Wärmeleitfähigkeit	(W/mK)	300

Merkmale der Silizium-Ätzplatte für PSS-Ätzanwendungen

- Vermeiden Sie ein Abblättern und stellen Sie sicher, dass die Beschichtung auf der gesamten Oberfläche vorhanden ist

Oxidationsbeständigkeit bei hohen Temperaturen: Stabil bei hohen Temperaturen bis 1600 °C

Hohe Reinheit: hergestellt durch CVD-chemische Gasphasenabscheidung unter Hochtemperatur-Chlorierungsbedingungen.

Korrosionsbeständigkeit: hohe Härte, dichte Oberfläche und feine Partikel.

Korrosionsbeständigkeit: Säure, Alkali, Salz und organische Reagenzien.

- Erzielen Sie das beste laminare Gasströmungsmuster

- Gewährleistung der Gleichmäßigkeit des thermischen Profils

- Verhindern Sie jegliche Kontamination oder Diffusion von Verunreinigungen

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