Semikorex -Kantenringe werden von den führenden Halbleiter Fabs und OEMs weltweit vertrauen. Semicorex bietet Lösungen, die die Lebensdauer erweitern, Wafer-Gleichmäßigkeit optimieren und erweiterte Prozessknoten unterstützen.*
WeiterlesenAnfrage absendenSemikorex -Gasverteilungsplatten aus CVD SIC sind eine kritische Komponente in Plasmaetchsystemen, die eine gleichmäßige Gasdispersion und eine konsistente Plasmaleistung über den Wafer gewährleisten. Semicorex ist die vertrauenswürdige Wahl für leistungsstarke Keramiklösungen und bietet unübertroffene materielle Reinheit, technische Präzision und zuverlässige Unterstützung, die auf die Anforderungen einer fortschrittlichen Semiconductor-Herstellung zugeschnitten sind.**
WeiterlesenAnfrage absendenDer Duschkopf aus massivem SiC ist eine entscheidende Komponente in der Halbleiterfertigung und wurde speziell für chemische Gasphasenabscheidungsprozesse (CVD) entwickelt. Semicorex, ein führendes Unternehmen in der fortschrittlichen Materialtechnologie, bietet Duschköpfe aus massivem SiC an, die eine hervorragende Verteilung der Vorläufergase über Substratoberflächen gewährleisten. Diese Präzision ist entscheidend für die Erzielung qualitativ hochwertiger und konsistenter Verarbeitungsergebnisse.**
WeiterlesenAnfrage absendenDurch einen Prozess der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD) wird der Semicorex CVD SiC Focus Ring sorgfältig abgeschieden und mechanisch bearbeitet, um das Endprodukt zu erhalten. Aufgrund seiner hervorragenden Materialeigenschaften ist es in den anspruchsvollen Umgebungen der modernen Halbleiterfertigung unverzichtbar.**
WeiterlesenAnfrage absendenDer Ätzring aus CVD-SiC ist eine wesentliche Komponente im Halbleiterfertigungsprozess und bietet außergewöhnliche Leistung in Plasmaätzumgebungen. Mit seiner überlegenen Härte, chemischen Beständigkeit, thermischen Stabilität und hohen Reinheit stellt CVD-SiC sicher, dass der Ätzprozess präzise, effizient und zuverlässig ist. Durch die Wahl von CVD-SiC-Ätzringen von Semicorex können Halbleiterhersteller die Langlebigkeit ihrer Geräte verlängern, Ausfallzeiten reduzieren und die Gesamtqualität ihrer Produkte verbessern.*
WeiterlesenAnfrage absendenDer CVD-SiC-Duschkopf von Semicorex ist eine Kernkomponente, die in Halbleiter-Ätzgeräten verwendet wird und sowohl als Elektrode als auch als Leitung für Ätzgase dient. Wählen Sie Semicorex aufgrund seiner hervorragenden Materialkontrolle, fortschrittlichen Verarbeitungstechnologie und zuverlässigen, langlebigen Leistung in anspruchsvollen Halbleiteranwendungen.*
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