Der Semicorex Bulk SiC Ring ist eine entscheidende Komponente in Halbleiterätzprozessen und wurde speziell für den Einsatz als Ätzring in fortschrittlichen Halbleiterfertigungsanlagen entwickelt. Mit unserem unerschütterlichen Engagement, qualitativ hochwertige Produkte zu wettbewerbsfähigen Preisen anzubieten, sind wir bereit, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.*
WeiterlesenAnfrage absendenDer CVD-Siliziumkarbid-Duschkopf von Semicorex ist eine wesentliche und hochspezialisierte Komponente im Halbleiterätzprozess, insbesondere bei der Herstellung integrierter Schaltkreise. Mit unserem unerschütterlichen Engagement, qualitativ hochwertige Produkte zu wettbewerbsfähigen Preisen zu liefern, sind wir bereit, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.*
WeiterlesenAnfrage absendenDer Semicorex CVD SiC Showerhead ist eine wesentliche Komponente in modernen CVD-Prozessen zur Erzielung hochwertiger, gleichmäßiger dünner Filme mit verbesserter Effizienz und Durchsatz. Die hervorragende Gasflusskontrolle, der Beitrag zur Filmqualität und die lange Lebensdauer des CVD-SiC-Duschkopfes machen ihn für anspruchsvolle Halbleiterfertigungsanwendungen unverzichtbar.**
WeiterlesenAnfrage absendenDer Semicorex-Fokussierring aus massivem Siliziumkarbid ist eine zentrale Komponente in der Halbleiterfertigung und wird strategisch außerhalb des Wafers positioniert, um den direkten Kontakt aufrechtzuerhalten. Mithilfe einer angelegten Spannung fokussiert dieser Ring das ihn durchquerende Plasma und verbessert so die Prozessgleichmäßigkeit auf dem Wafer. Dieser Fokusring besteht ausschließlich aus chemisch aufgedampftem Siliziumkarbid (CVD SiC) und verkörpert die außergewöhnlichen Eigenschaften, die von der Halbleiterindustrie gefordert werden. Wir bei Semicorex widmen uns der Herstellung und Lieferung leistungsstarker Fokussierungsringe aus massivem Siliziumkarbid, die Qualität mit Kosteneffizienz verbinden.
WeiterlesenAnfrage absendenDer SiC-Duschkopf von Semicorex ist eine wesentliche Komponente im epitaktischen Wachstumsprozess und wurde speziell entwickelt, um die Gleichmäßigkeit und Effizienz der Dünnschichtabscheidung auf Halbleiterwafern zu verbessern. Semicorex ist bestrebt, Qualitätsprodukte zu wettbewerbsfähigen Preisen anzubieten. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.
WeiterlesenAnfrage absendenDer Semicorex CVD-Duschkopf mit SiC-Beschichtung stellt eine fortschrittliche Komponente dar, die für Präzision in industriellen Anwendungen entwickelt wurde, insbesondere im Bereich der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD) und der plasmaunterstützten chemischen Gasphasenabscheidung (PECVD). Dieser spezielle CVD-Duschkopf mit SiC-Beschichtung dient als kritischer Kanal für die Zufuhr von Vorläufergasen oder reaktiven Spezies und erleichtert die präzise Abscheidung von Materialien auf der Oberfläche eines Substrats, was ein wesentlicher Bestandteil dieser anspruchsvollen Herstellungsprozesse ist.
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