Das planare Target aus monokristallinem Silizium von Semicorex ist eine entscheidende Komponente in der hochmodernen Halbleiterfertigungsindustrie. Es wird aus hochwertigem monokristallinem Siliziummaterial hergestellt und zeichnet sich durch eine hochgeordnete Kristallstruktur und bemerkenswerte Reinheit aus. Diese Eigenschaften machen es zu einer idealen Lösung für die Herstellung zuverlässiger, leistungsstarker Halbleiterfilme und optischer Filme.
WeiterlesenAnfrage absendenSemicorex-Siliziumkassettenboote sind spezielle Träger, die zu 99,9999999 % aus hochreinem monokristallinem und polykristallinem Silizium hergestellt werden und sich insbesondere auf die Herstellung von Hochleistungshalbleitern konzentrieren. Wenn Sie sich für Semicorex entscheiden, profitieren Sie von zuverlässiger Qualität, kundenspezifischen Dienstleistungen und erhöhter Produktivität.
WeiterlesenAnfrage absendenEinkristalliner Silizium-Duschkopf, bekannt als Gassprühkopf oder Gasverteilungsplatte, ist eine weit verbreitete Gasverteilungsvorrichtung in Halbleiterfertigungsprozessen für wichtige Prozessschritte wie Reinigen, Ätzen und Abscheiden. Hochwertige und kostengünstige Duschköpfe aus einkristallinem Silizium sind für die Verbesserung der Präzision und Qualität der Chipherstellung in der Halbleiterindustrie unerlässlich.
WeiterlesenAnfrage absendenSemicorex Silicon Pedestal Boat ist ein hochreiner 9N-Waferträger, der für die präzise und stabile Waferunterstützung bei Hochtemperaturoxidations-, Diffusions- und LPCVD-Prozessen entwickelt wurde. Wählen Sie Semicorex für unübertroffene Materialreinheit, Präzisionsbearbeitung und bewährte Zuverlässigkeit*
WeiterlesenAnfrage absendenDer Semicorex-Siliziuminjektor ist eine hochreine röhrenförmige Komponente, die für eine präzise und kontaminationsfreie Gaszufuhr in LPCVD-Polysiliziumabscheidungsprozessen entwickelt wurde. Wählen Sie Semicorex für branchenführende Reinheit, Präzisionsbearbeitung und bewährte Zuverlässigkeit.*
WeiterlesenAnfrage absendenSemicorex Silicon Wafer Boat ist ein hochreiner Träger, der für Halbleiter-Hochtemperaturöfen entwickelt wurde und Wafer während Oxidations- und Reduktionsprozessen bei 1200–1250 °C unterstützt. Semicorex bietet erstklassige Produkte, ultrareine Leistung und zuverlässige Ergebnisse, die den Geräteertrag direkt steigern.*
WeiterlesenAnfrage absenden