China Spezialgraphit Hersteller, Lieferanten, Fabrik

Spezialgraphit ist eine Art künstlicher Graphit, die verarbeitet wird. Es ist ein wichtiges Material, das in allen Aspekten des Halbleiter- und Photovoltaik -Herstellungsprozesses unverzichtbar ist, einschließlich Kristallwachstum, Ionenimplantation, Epitaxie usw.

1. SIC -Kristallwachstum von Siliziumcarbid (sic)

Siliziumcarbid als Halbleitermaterial der dritten Generation wird in neuen Energiefahrzeugen, 5G-Kommunikation und anderen Feldern häufig eingesetzt. Im 6-Zoll- und 8-Zoll-SIC-Kristallwachstumsprozess wird isostatischer Graphit hauptsächlich zur Herstellung der folgenden Schlüsselkomponenten verwendet:

Graphit Crucible: Dies kann verwendet werden, um SIC -Pulver -Ausgangsmaterial zu synthetisieren und auch das Kristallwachstum bei hohen Temperaturen zu unterstützen. Seine hohe Reinheit, Hochtemperaturresistenz und thermische Schockwiderstand sorgen für eine stabile Umgebung für Kristallwachstum.

Graphitheizung: Dies sorgt für eine gleichmäßige Wärmeverteilung und gewährleistet ein hochwertiges SIC-Kristallwachstum.

Isolationsrohr: Dies hält die Temperaturgleichmäßigkeit innerhalb des Kristallwachstumsofens und verringert den Wärmeverlust.

2. Ionenimplantation

Die Ionenimplantation ist ein Schlüsselprozess bei der Herstellung von Halbleiter. Isostatische Graphit wird hauptsächlich verwendet, um die folgenden Komponenten in Ionen -Implantern herzustellen:

Graphit Getter: Dies absorbiert Verunreinigungen im Ionenstrahl und stellt die Ionenreinheit sicher.

Graphit Focusing Ring: Dies konzentriert sich auf den Ionenstrahl und verbessert die Genauigkeit und Effizienz der Ionenimplantat. Graphit -Substratschalen: Wird zur Unterstützung von Siliziumwafern und zur Aufrechterhaltung der Stabilität und Konsistenz während der Ionenimplantation verwendet.

3.. Epitaxieprozess

Der Epitaxieprozess ist ein kritischer Schritt in der Herstellung von Halbleiter Geräte. Isostatisch gepresstes Graphit wird hauptsächlich verwendet, um die folgenden Komponenten in Epitaxienöfen herzustellen:

Graphit -Tabletts und -Sponatoren: Wird zur Unterstützung von Siliziumwafern verwendet, die während des Epitaxieprozesses eine stabile Unterstützung und eine gleichmäßige Wärmeleitung liefern.

4. Andere Halbleiter -Herstellungsanwendungen

Isostatisch gepresstes Graphit wird auch in den folgenden Halbleiterfertigungsanwendungen häufig verwendet:

Radierungsprozess: Wird zur Herstellung von Graphitelektroden und Schutzkomponenten für Ätzmittel verwendet. Seine Korrosionsbeständigkeit und hohe Reinheit gewährleisten Stabilität und Präzision im Ätzprozess.

Chemische Dampfabscheidung (CVD): Wird zur Herstellung von Graphitschalen und Heizungen in CVD -Öfen verwendet. Seine hohe thermische Leitfähigkeit und Hochtemperaturbeständigkeit sorgen für eine gleichmäßige Dünnfilmabscheidung.

Verpackungstests: Wird zur Herstellung von Testvorrichtungen und Trägerschalen verwendet. Seine hohe Präzision und niedrige Kontamination gewährleisten genaue Testergebnisse.

Vorteile von Graphitteilen

Hohe Reinheit:

Unter Verwendung von hochreinigem Graphitmaterial mit extrem geringem Verunreinigungsgehalt erfüllt es den strengen materiellen Reinheitsanforderungen der Semiconductor-Herstellung. Der eigene Reinigungsofen des Unternehmens kann Graphit auf unter 5 ppm reinigen.

Hohe Präzision:

Mit fortschrittlichen Verarbeitungsgeräten und reifen Verarbeitungstechnologie stellt sie sicher, dass die dimensionale Genauigkeit des Produkts und die Form- und Positions -Toleranzen den Mikrometerniveau erreichen.

Hohe Leistung:

Das Produkt hat eine hervorragende Hochtemperaturbeständigkeit, Korrosionsbeständigkeit, Strahlungsbeständigkeit, hohe thermische Leitfähigkeit und andere Eigenschaften, wodurch die verschiedenen harten Arbeitsbedingungen der Semiconductor -Herstellung erfüllt werden.

Angeordneter Service:

Customisierte Produktdesign- und Verarbeitungsdienste können gemäß den Bedürfnissen der Kunden bereitgestellt werden, um die Anforderungen verschiedener Anwendungsszenarien zu erfüllen.

Arten von Graphitprodukten

(1) Isostatische Graphit
Isostatische Graphitprodukte werden durch kaltes isostatisches Pressen hergestellt. Im Vergleich zu anderen Formungsmethoden weisen die durch diesen Prozess erzeugten Tiegel eine hervorragende Stabilität auf. Die für SIC -Einzelkristalle erforderlichen Graphitprodukte sind alle große Größe, was zu einer ungleichmäßigen Reinheit auf der Oberfläche und innerhalb der Graphitprodukte führt, die den Nutzungsanforderungen nicht erfüllen können. Um die tiefen Reinigungsanforderungen großer Graphitprodukte zu erfüllen, die für SIC-Einzelkristalle benötigt werden, sollte ein einzigartiger thermochemischer Pulsreinigungsprozess mit hohem Temperatur eingesetzt werden, um eine tiefe und gleichmäßige Reinigung von großgrößten oder speziellen Graphitprodukten zu erreichen, damit die Reinheit der Produktoberfläche und des Kerns den Nutzungsanforderungen erfüllen kann.

(2) Poröse Graphit
Poröse Graphit ist eine Art Graphit mit hoher Porosität und niedriger Dichte. Im SIC -Kristallwachstumsprozess spielt poröse Graphit eine signifikante Rolle bei der Verbesserung der Massenübergang Gleichmäßigkeit, die Auftretensrate der Phasenänderung und die Verbesserung der Kristallform.
Die Verwendung von poröser Graphit verbessert die Temperatur- und Temperaturgleichmäßigkeit des Rohstoffbereichs, erhöht die axiale Temperaturdifferenz im Schmelztiegel und wirkt sich auch auf die Schwächung der Rekristallisierung der Rohstoffoberfläche aus. In der Wachstumskammer verbessert poröser Graphit die Stabilität des Materialflusss während des gesamten Wachstumsprozesses, erhöht das C/SI -Verhältnis des Wachstumsbereichs, hilft, die Wahrscheinlichkeit einer Phasenänderung zu verringern, und gleichzeitig spielt poröse Graphit auch eine Rolle bei der Verbesserung der Kristallschnittfläche.

(3) gefühlt
Soft Filz und hartes Filz spielen die Rolle wichtiger thermischer Isolationsmaterialien bei SIC -Kristallwachstum und epitaxialen Verbindungen.

(4) Graphitfolie
Graphitpapier ist ein funktionelles Material aus Hochkohlenstoff-Flockengrafit durch chemische Behandlung und Hochtemperaturrollen. Es weist eine hohe thermische Leitfähigkeit, die elektrische Leitfähigkeit, die Flexibilität und die Korrosionsbeständigkeit auf.

(5) Verbundwerkstoffe
Das Thermalfeld von Kohlenstoffkohlenstoff ist eines der Kernverbrauchsmaterialien in der Photovoltaik-Einkristallofenproduktion.

Semikorex -Produktion

Semicorex macht Graphit mit kleinen, angepassten Produktionsmethoden. Die Small-Batch-Produktion macht die Produkte kontrollierbarer. Der gesamte Prozess wird von programmierbaren Logikkontrollern (PLCs) gesteuert, die detaillierten Prozessdaten wurden aufgezeichnet, wodurch die vollständige Rückverfolgbarkeit der Lebenszyklus ermöglicht wurde.

Während des gesamten Bratenprozesses, die Konsistenz, die im Widerstand an verschiedenen Stellen erreicht wird, und die enge Temperaturregelung beibehalten. Dies stellt die Homogenität und Zuverlässigkeit der Graphitmaterialien sicher.

Semicorex nutzt eine vollständig isostatische Pressungstechnologie, die sich von anderen Lieferanten unterscheidet. Dies bedeutet, dass der Graphit selbst ultra gleichmäßig ist und sich für epitaxiale Prozesse als besonders wichtig erwiesen hat. Die umfassenden materiellen Gleichmäßigkeitstests wurden durchgeführt, einschließlich Dichte, Widerstand, Härte, Biegefestigkeit und Festigkeit über verschiedene Proben hinweg.