Als professioneller Hersteller möchten wir Ihnen SiC-Epitaxie anbieten. Und wir bieten Ihnen den besten Kundendienst und eine pünktliche Lieferung. Semicorex liefert CVD-Siliziumkarbid-beschichtete Graphit-Suszeptoren zur Unterstützung von Wafern. Ihre mit hochreinem Siliziumkarbid (SiC) beschichtete Graphitkonstruktion bietet eine hervorragende Hitzebeständigkeit, eine gleichmäßige thermische Gleichmäßigkeit für eine gleichmäßige Dicke und Beständigkeit der Epi-Schicht sowie eine dauerhafte chemische Beständigkeit. Die feine SiC-Kristallbeschichtung sorgt für eine saubere, glatte Oberfläche, was für die Handhabung von entscheidender Bedeutung ist, da makellose Wafer den Suszeptor an vielen Stellen über ihre gesamte Fläche berühren.
Die Semicorex LPE-Halbmond-Reaktionskammer ist für den effizienten und zuverlässigen Betrieb der SiC-Epitaxie unverzichtbar. Sie gewährleistet die Produktion hochwertiger Epitaxieschichten und reduziert gleichzeitig die Wartungskosten und steigert die Betriebseffizienz. **
WeiterlesenAnfrage absendenDer Semicorex 6'' Wafer Carrier für Aixtron G5 bietet eine Vielzahl von Vorteilen für den Einsatz in Aixtron G5-Geräten, insbesondere in Hochtemperatur- und hochpräzisen Halbleiterfertigungsprozessen.**
WeiterlesenAnfrage absendenSemicorex Epitaxy Wafer Carrier bietet eine äußerst zuverlässige Lösung für Epitaxieanwendungen. Die fortschrittlichen Materialien und Beschichtungstechnologie stellen sicher, dass diese Träger eine hervorragende Leistung liefern und Betriebskosten und Ausfallzeiten aufgrund von Wartung oder Austausch reduzieren.**
WeiterlesenAnfrage absendenSemicorex stellt seinen SiC-Scheibensuszeptor vor, der die Leistung von Geräten für Epitaxie, metallorganische chemische Gasphasenabscheidung (MOCVD) und schnelle thermische Verarbeitung (RTP) steigern soll. Der sorgfältig konstruierte SiC-Scheibensuszeptor verfügt über Eigenschaften, die überlegene Leistung, Haltbarkeit und Effizienz in Hochtemperatur- und Vakuumumgebungen garantieren.**
WeiterlesenAnfrage absendenSemicorex SiC ALD Susceptor bietet zahlreiche Vorteile in ALD-Prozessen, darunter Hochtemperaturstabilität, verbesserte Filmgleichmäßigkeit und -qualität, verbesserte Prozesseffizienz und längere Suszeptorlebensdauer. Diese Vorteile machen den SiC-ALD-Suszeptor zu einem wertvollen Werkzeug für die Erzielung leistungsstarker Dünnfilme in verschiedenen anspruchsvollen Anwendungen.**
WeiterlesenAnfrage absendenDer Semicorex ALD Planetary Susceptor ist in ALD-Geräten wichtig, da er rauen Verarbeitungsbedingungen standhält und eine qualitativ hochwertige Filmabscheidung für eine Vielzahl von Anwendungen gewährleistet. Da die Nachfrage nach fortschrittlichen Halbleiterbauelementen mit kleineren Abmessungen und verbesserter Leistung weiter wächst, wird erwartet, dass der Einsatz des ALD Planetary Susceptor in ALD weiter zunehmen wird.**
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