Semicorex-Aluminiumoxid-Montage-Basisplatten sind Hochleistungs-Keramikkomponenten für eine präzise Waferhandhabung bei der Herstellung von Halbleiter. Seine überlegene Stärke, Isolierung und thermische Stabilität machen es ideal, um Reinraumautomationsumgebungen zu fordern.*
WeiterlesenAnfrage absendenSemicorex Alumina-Roboterarm ist eine Hochleistungskeramikkomponente für eine präzise Waferhandhabung bei der Herstellung von Halbleiter. Seine überlegene Stärke, Isolierung und thermische Stabilität machen es ideal, um Reinraumautomationsumgebungen zu fordern.*
WeiterlesenAnfrage absendenSemicorex Alumina Ceramic End Effector ist eine Präzisionsmotor-Komponente, die speziell für die zuverlässige und kontaminationsfreie Waferhandhabung bei der Herstellung von Halbleiter und verwandten Anwendungen entwickelt wurde.*
WeiterlesenAnfrage absendenDas poröse Keramikfutter (Vakuumfutter) von Semicorex ist ein hochpräzises Werkzeug, das zum sicheren Halten von Wafern während Halbleiterherstellungsprozessen entwickelt wurde. Wenn Sie sich für Semicorex entscheiden, profitieren Sie von einer Lösung, die außergewöhnliche Leistung, Haltbarkeit und Anpassungsoptionen bietet und so eine verbesserte Produktionseffizienz und gleichbleibende Qualitätsstandards gewährleistet.*
WeiterlesenAnfrage absendenSemicorex-Aluminiumoxid-Vakuumspannfutter sind präzisionsgefertigte Komponenten, die Wafer oder Substrate während kritischer Halbleiter- und Präzisionsfertigungsprozesse sicher halten. Dank des Engagements von Semicorex für hochwertige Materialien und modernste Fertigungstechniken bieten unsere Aluminiumoxid-Vakuumspannfutter unübertroffene Zuverlässigkeit, Präzision und Leistung für Ihre anspruchsvollsten Anwendungen.*
WeiterlesenAnfrage absendenSemicorex Vacuum Chuck ist eine Hochleistungskomponente, die für die sichere und präzise Handhabung von Wafern in der Halbleiterfertigung entwickelt wurde. Wählen Sie Semicorex für unsere fortschrittlichen, langlebigen und kontaminationsresistenten Lösungen, die selbst in den anspruchsvollsten Prozessen optimale Leistung gewährleisten.*
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