Werfen Sie einen Blick auf unsere umfassende Auswahl anSiliziumwafer, die sorgfältig gefertigt wurden, um den anspruchsvollen Anforderungen modernster Halbleiteranwendungen gerecht zu werden. DieseSi-Waferwerden mit Präzision entworfen und auf Zuverlässigkeit ausgelegt und dienen als grundlegendes Substrat für die Entwicklung fortschrittlicher elektronischer Geräte, Mikrochips und Photovoltaikzellen. Ganz gleich, ob Sie eine Forschungseinrichtung, ein Halbleiterhersteller oder eine akademische Einrichtung sind: Unser Angebot anSiliziumwaferbietet unvergleichliche Qualität und Leistung.
Spezifikationen:
Material: Hochreines monokristallines Silizium
Durchmesser: Erhältlich in verschiedenen Größen, einschließlich 100 mm, 150 mm, 200 mm und 300 mm (kundenspezifische Größen auf Anfrage erhältlich)
Ausrichtung: Hauptausrichtungen <100>, <111>, <110> verfügbar
Spezifischer Widerstand: Maßgeschneiderte Widerstandsoptionen für spezifische Anwendungsanforderungen im Bereich von 0,001 Ωcm bis 10.000 Ωcm
Oberflächenbeschaffenheit: Ein- oder beidseitig poliert mit präziser Rauheitskontrolle (Ra)
TTV (Total Thickness Variation): Streng kontrollierte TTV für Gleichmäßigkeit über den gesamten Wafer
Krümmung/Krümmung: Minimierung der Krümmung und Krümmung, um die Kompatibilität mit Halbleiterverarbeitungsgeräten sicherzustellen
Verpackung: Wafer werden in Reinraumumgebungen sicher verpackt, um Kontaminationen zu verhindern und die Integrität während des Transports und der Lagerung sicherzustellen
Anwendungen:
● Herstellung von Halbleiterbauelementen
● MEMS (Mikroelektromechanische Systeme)
●l Herstellung integrierter Schaltkreise (ICs).
● Optoelektronik
● Photovoltaik (Solarzellen)
● Mikrofluidik
● Sensorik
● Quantencomputing-Forschung
Profitieren Sie von der außergewöhnlichen Qualität und Konsistenz unserer Siliziumwafer, um Innovationen voranzutreiben und Ihre Halbleiter-Forschungs- und Entwicklungsprojekte zu beschleunigen. Mit strengen Qualitätskontrollmaßnahmen und der Verpflichtung zu Spitzenleistungen ermöglichen unsere Siliziumwafer Forschern und Herstellern, die Grenzen der Technologie zu verschieben und die nächste Welle von Durchbrüchen in der Elektronik und darüber hinaus einzuleiten.
Der Semicorex-Siliziumwafer ist eine dünne, kreisförmige Scheibe Siliziumkristall, die bei der Herstellung integrierter Schaltkreise und anderer Mikrogeräte verwendet wird. Typischerweise werden diese Wafer in einem sorgfältigen Prozess hergestellt, bei dem ein Einkristallblock aus hochreinem Silizium gezüchtet und anschließend präzise in dünne Scheiben geschnitten wird. Siliziumwafer dienen als grundlegendes Substrat, auf dem Halbleiterbauelemente aufgebaut werden. Semicorex ist bestrebt, Qualitätsprodukte zu wettbewerbsfähigen Preisen anzubieten. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.
WeiterlesenAnfrage absendenDas Semicorex-Siliziumsubstrat dient als Leinwand, auf der komplizierte elektronische Schaltkreise hergestellt werden. Dieses kristalline Substrat wird aus Silizium, einem der am häufigsten vorkommenden Elemente in der Erdkruste, gewonnen und bildet das Grundmaterial für die Herstellung von Halbleiterbauelementen. Semicorex ist bestrebt, Qualitätsprodukte zu wettbewerbsfähigen Preisen anzubieten. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.
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