Trommelsuszeptoren sind eine kritische Komponente, die in verschiedenen Halbleiterherstellungsprozessen wie LPE, MOCVD verwendet wird. Semicorex trägt hochreines Siliziumkarbid in dünnen Schichten auf den Graphit auf, indem das Verfahren der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD) verwendet wird, wodurch das Material in Halbleiterqualität mit ausgezeichneter thermischer Stabilität, chemischer Beständigkeit und Verschleißfestigkeit ausgestattet wird, was es ideal für den Einsatz in hochreinen Temperaturprozesse.
â Hochreiner SiC-beschichteter Graphit
â Hervorragende Hitzebeständigkeit und Chemikalienbeständigkeit
â Hohe thermische Einheitlichkeit
â Hervorragende Verschleißfestigkeit
Der Semicorex CVD SiC Coated Barrel Susceptor ist eine sorgfältig entwickelte Komponente, die auf fortschrittliche Halbleiterfertigungsprozesse, insbesondere Epitaxie, zugeschnitten ist. Unsere Produkte haben einen guten Preisvorteil und decken die meisten europäischen und amerikanischen Märkte ab. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.
WeiterlesenAnfrage absendenDer mit Siliziumkarbid beschichtete Graphit von Semicorex Barrel Susceptor ist eine spezielle Komponente, die für den Einsatz im Epitaxieprozess, insbesondere zum Tragen von Wafern, entwickelt wurde. Kontaktieren Sie uns noch heute, um mehr darüber zu erfahren, wie wir Sie bei der Verarbeitung von Halbleiterwafern unterstützen können.
WeiterlesenAnfrage absendenSemicorex SiC-beschichteter Barrel-Suszeptor für epitaktisches LPE-Wachstum ist ein Hochleistungsprodukt, das für eine konsistente und zuverlässige Leistung über einen längeren Zeitraum ausgelegt ist. Sein gleichmäßiges thermisches Profil, sein laminares Gasströmungsmuster und die Vermeidung von Kontamination machen es zur idealen Wahl für das Wachstum hochwertiger Epitaxieschichten auf Waferchips. Seine Anpassbarkeit und Kosteneffizienz machen es zu einem äußerst wettbewerbsfähigen Produkt auf dem Markt.
WeiterlesenAnfrage absendenDas Semicorex Barrel Susceptor Epi System für die LPE-Epitaxie ist ein hochwertiges Produkt, das eine hervorragende Beschichtungshaftung, hohe Reinheit und Oxidationsbeständigkeit bei hohen Temperaturen bietet. Sein gleichmäßiges thermisches Profil, sein laminares Gasströmungsmuster und die Verhinderung von Kontamination machen es zur idealen Wahl für das Wachstum epixialer Schichten auf Waferchips. Seine Kosteneffizienz und Anpassbarkeit machen es zu einem äußerst wettbewerbsfähigen Produkt auf dem Markt.
WeiterlesenAnfrage absendenDas Semicorex Flüssigphasenepitaxie (LPE)-Reaktorsystem ist ein innovatives Produkt, das eine hervorragende thermische Leistung, ein gleichmäßiges thermisches Profil und eine hervorragende Beschichtungshaftung bietet. Seine hohe Reinheit, Hochtemperatur-Oxidationsbeständigkeit und Korrosionsbeständigkeit machen es zur idealen Wahl für den Einsatz in der Halbleiterindustrie. Seine anpassbaren Optionen und seine Kosteneffizienz machen es zu einem äußerst wettbewerbsfähigen Produkt auf dem Markt.
WeiterlesenAnfrage absendenSemicorex CVD Epitaxial Deposition In Barrel Reactor ist ein äußerst langlebiges und zuverlässiges Produkt zum Aufwachsen von Epixialschichten auf Waferchips. Seine Hochtemperatur-Oxidationsbeständigkeit und hohe Reinheit machen es für den Einsatz in der Halbleiterindustrie geeignet. Sein gleichmäßiges thermisches Profil, sein laminares Gasströmungsmuster und die Verhinderung von Kontamination machen es zur idealen Wahl für das Wachstum hochwertiger Epixialschichten.
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