Zylindersuszeptoren sind eine kritische Komponente, die in verschiedenen Halbleiterherstellungsprozessen wie LPE und MOCVD verwendet wird. Semicorex trägt mithilfe des chemischen Gasphasenabscheidungsverfahrens (CVD) hochreines Siliziumkarbid in dünnen Schichten auf den Graphit auf, wodurch das Material zu einem Halbleitermaterial mit ausgezeichneter thermischer Stabilität, chemischer Beständigkeit und Verschleißfestigkeit wird, was es ideal für den Einsatz in Hochtemperaturanwendungen macht. Temperaturprozesse.
● Hochreiner SiC-beschichteter Graphit
● Hervorragende Hitzebeständigkeit und chemische Beständigkeit
● Hohe thermische Gleichmäßigkeit
● Hervorragende Verschleißfestigkeit
Der Semicorex CVD SiC Coated Barrel Susceptor ist eine sorgfältig entwickelte Komponente, die auf fortschrittliche Halbleiterfertigungsprozesse, insbesondere Epitaxie, zugeschnitten ist. Unsere Produkte haben einen guten Preisvorteil und decken die meisten europäischen und amerikanischen Märkte ab. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.
WeiterlesenAnfrage absendenDer mit Siliziumkarbid beschichtete Graphit von Semicorex Barrel Susceptor ist eine spezielle Komponente, die für den Einsatz im Epitaxieprozess, insbesondere zum Tragen von Wafern, entwickelt wurde. Kontaktieren Sie uns noch heute, um mehr darüber zu erfahren, wie wir Sie bei der Verarbeitung von Halbleiterwafern unterstützen können.
WeiterlesenAnfrage absendenDer SiC-beschichtete Zylindersuszeptor von Semicorex für das epitaxiale LPE-Wachstum ist ein Hochleistungsprodukt, das für eine konstante und zuverlässige Leistung über einen längeren Zeitraum ausgelegt ist. Sein gleichmäßiges thermisches Profil, das laminare Gasströmungsmuster und die Vermeidung von Kontaminationen machen es zur idealen Wahl für das Wachstum hochwertiger Epitaxieschichten auf Waferchips. Seine Anpassbarkeit und Kosteneffizienz machen es zu einem äußerst wettbewerbsfähigen Produkt auf dem Markt.
WeiterlesenAnfrage absendenDas Semicorex Barrel Susceptor Epi System ist ein hochwertiges Produkt, das eine hervorragende Beschichtungshaftung, hohe Reinheit und Oxidationsbeständigkeit bei hohen Temperaturen bietet. Sein gleichmäßiges thermisches Profil, das laminare Gasströmungsmuster und die Vermeidung von Kontaminationen machen es zur idealen Wahl für das Wachstum von Epixieschichten auf Waferchips. Seine Kosteneffizienz und Anpassbarkeit machen es zu einem äußerst wettbewerbsfähigen Produkt auf dem Markt.
WeiterlesenAnfrage absendenDas Semicorex Liquid Phase Epitaxy (LPE) Reaktorsystem ist ein innovatives Produkt, das eine hervorragende thermische Leistung, ein gleichmäßiges thermisches Profil und eine hervorragende Beschichtungshaftung bietet. Seine hohe Reinheit, Oxidationsbeständigkeit bei hohen Temperaturen und Korrosionsbeständigkeit machen es zur idealen Wahl für den Einsatz in der Halbleiterindustrie. Seine anpassbaren Optionen und seine Kosteneffizienz machen es zu einem äußerst wettbewerbsfähigen Produkt auf dem Markt.
WeiterlesenAnfrage absendenDer Semicorex CVD Epitaxial Deposition In Barrel Reactor ist ein äußerst langlebiges und zuverlässiges Produkt zum Aufwachsen epixieller Schichten auf Wafer-Chips. Aufgrund seiner Oxidationsbeständigkeit bei hohen Temperaturen und seiner hohen Reinheit eignet es sich für den Einsatz in der Halbleiterindustrie. Sein gleichmäßiges thermisches Profil, das laminare Gasströmungsmuster und die Vermeidung von Kontaminationen machen es zur idealen Wahl für das Wachstum hochwertiger Epixieschichten.
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