Der Semicorex RTP-Träger ist im CVD-Verfahren (Chemical Vapour Deposition) mit Siliziumkarbid beschichtet, das für RTA, RTP oder aggressive chemische Reinigung sehr stabil ist. Das Herzstück des Halbleiterprozesses, die Epitaxie-Suszeptoren, werden zunächst der Abscheidungsumgebung ausgesetzt, sodass sie eine hohe Hitze- und Korrosionsbeständigkeit aufweisen. Der mit SiC beschichtete Träger verfügt außerdem über eine hohe Wärmeleitfähigkeit und hervorragende Wärmeverteilungseigenschaften.
● Hochreiner SiC-beschichteter Graphit
● Hervorragende Hitzebeständigkeit und chemische Beständigkeit
● Hohe thermische Gleichmäßigkeit
● Hervorragende Verschleißfestigkeit
Der Semicorex RTP-Ring ist ein SiC-beschichteter Graphitring, der für Hochleistungsanwendungen in RTP-Systemen (Rapid Thermal Processing) entwickelt wurde. Wählen Sie Semicorex aufgrund unserer fortschrittlichen Materialtechnologie, die eine überragende Haltbarkeit, Präzision und Zuverlässigkeit bei der Halbleiterfertigung gewährleistet.*
WeiterlesenAnfrage absendenDie RTP-Graphit-Trägerplatte von Semicorex ist die perfekte Lösung für Halbleiter-Wafer-Verarbeitungsanwendungen, einschließlich Epitaxiewachstum und Wafer-Handling-Verarbeitung. Unser Produkt ist so konzipiert, dass es eine hervorragende Hitzebeständigkeit und thermische Gleichmäßigkeit bietet und sicherstellt, dass die Epitaxie-Suszeptoren der Abscheidungsumgebung mit hoher Hitze- und Korrosionsbeständigkeit ausgesetzt sind.
WeiterlesenAnfrage absendenDer Semicorex RTP SiC-Beschichtungsträger bietet eine hervorragende Hitzebeständigkeit und thermische Gleichmäßigkeit und ist damit die perfekte Lösung für Anwendungen bei der Verarbeitung von Halbleiterwafern. Mit seinem hochwertigen SiC-beschichteten Graphit ist dieses Produkt so konzipiert, dass es den härtesten Abscheidungsumgebungen für epitaktisches Wachstum standhält. Die hohe Wärmeleitfähigkeit und die hervorragenden Wärmeverteilungseigenschaften gewährleisten eine zuverlässige Leistung bei RTA, RTP oder aggressiver chemischer Reinigung.
WeiterlesenAnfrage absendenDer Semicorex RTP/RTA SiC-Beschichtungsträger ist so konstruiert, dass er den härtesten Bedingungen der Abscheidungsumgebung standhält. Mit seiner hohen Hitze- und Korrosionsbeständigkeit ist dieses Produkt darauf ausgelegt, eine optimale Leistung für das epitaktische Wachstum zu bieten. Der mit SiC beschichtete Träger verfügt über eine hohe Wärmeleitfähigkeit und hervorragende Wärmeverteilungseigenschaften und gewährleistet so eine zuverlässige Leistung bei RTA, RTP oder aggressiver chemischer Reinigung.
WeiterlesenAnfrage absendenDie SiC-Graphit-RTP-Trägerplatte von Semicorex für MOCVD bietet eine hervorragende Hitzebeständigkeit und thermische Gleichmäßigkeit und ist damit die perfekte Lösung für Halbleiter-Wafer-Verarbeitungsanwendungen. Mit einem hochwertigen SiC-beschichteten Graphit ist dieses Produkt so konstruiert, dass es den härtesten Abscheidungsumgebungen für epitaktisches Wachstum standhält. Die hohe Wärmeleitfähigkeit und die hervorragenden Wärmeverteilungseigenschaften gewährleisten eine zuverlässige Leistung bei RTA, RTP oder aggressiver chemischer Reinigung.
WeiterlesenAnfrage absendenDie SiC-beschichtete RTP-Trägerplatte von Semicorex für epitaktisches Wachstum ist die perfekte Lösung für Anwendungen zur Halbleiterwaferverarbeitung. Mit seinen hochwertigen Kohlenstoff-Graphit-Suszeptoren und Quarztiegeln, die durch MOCVD auf der Oberfläche von Graphit, Keramik usw. verarbeitet werden, ist dieses Produkt ideal für die Wafer-Handhabung und epitaktische Wachstumsverarbeitung. Der mit SiC beschichtete Träger gewährleistet eine hohe Wärmeleitfähigkeit und hervorragende Wärmeverteilungseigenschaften und ist somit eine zuverlässige Wahl für RTA-, RTP- oder aggressive chemische Reinigung.
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