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Ätzträgerhalter für PSS-Ätzung

Ätzträgerhalter für PSS-Ätzung

Der Ätzträgerhalter von Semicorex für das PSS-Ätzen wurde für die anspruchsvollsten Epitaxiegeräteanwendungen entwickelt. Unser ultrareiner Graphitträger hält rauen Umgebungen, hohen Temperaturen und aggressiver chemischer Reinigung stand. Der SiC-beschichtete Träger hat hervorragende Wärmeverteilungseigenschaften, eine hohe Wärmeleitfähigkeit und ist kostengünstig. Unsere Produkte sind in vielen europäischen und amerikanischen Märkten weit verbreitet, und wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.

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Produktbeschreibung

Bei Semicorex haben wir den Etching Carrier Holder für das PSS-Ätzen speziell für die rauen Umgebungen entwickelt, die für Epitaxie- und Wafer-Handling-Prozesse erforderlich sind. Unser ultrareiner Graphitträger ist ideal für Dünnfilm-Abscheidungsphasen wie MOCVD, Epitaxie-Suszeptoren, Pfannkuchen- oder Satellitenplattformen und Wafer-Handling-Verarbeitung wie Ätzen. Der SiC-beschichtete Träger hat eine hohe Hitze- und Korrosionsbeständigkeit, hervorragende Wärmeverteilungseigenschaften und eine hohe Wärmeleitfähigkeit. Unsere Produkte sind kostengünstig und bieten einen guten Preisvorteil.

Kontaktieren Sie uns noch heute, um mehr über unseren Ätzträgerhalter für PSS-Ätzung zu erfahren.


Parameter des Ätzträgerhalters für das PSS-Ätzen

Hauptspezifikationen der CVD-SIC-Beschichtung

SiC-CVD-Eigenschaften

Kristallstruktur

FCC β-Phase

Dichte

g/cm³

3.21

Härte

Vickers-Härte

2500

Körnung

μm

2~10

Chemische Reinheit

%

99.99995

Wärmekapazität

J·kg –1 ·K –1

640

Sublimationstemperatur

2700

Biegefestigkeit

MPa (RT 4-Punkt)

415

Elastizitätsmodul

Gpa (4pt Bend, 1300â)

430

Wärmeausdehnung (CTE)

10-6K-1

4.5

Wärmeleitfähigkeit

(W/mK)

300

 

Merkmale des Ätzträgerhalters für PSS-Ätzung

- Ablösen vermeiden und Beschichtung auf allen Oberflächen sicherstellen

Hochtemperatur-Oxidationsbeständigkeit: Stabil bei hohen Temperaturen bis zu 1600 °C

Hohe Reinheit: Hergestellt durch CVD-CVD unter Hochtemperatur-Chlorierungsbedingungen.

Korrosionsbeständigkeit: hohe Härte, dichte Oberfläche und feine Partikel.

Korrosionsbeständigkeit: Säure, Alkali, Salz und organische Reagenzien.

- Erzielen Sie das beste laminare Gasströmungsmuster

- Gewährleistung der Gleichmäßigkeit des thermischen Profils

- Verhindern Sie jegliche Kontamination oder Diffusion von Verunreinigungen





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