Ätzträgerhalter für PSS-Ätzung

Der Ätzträgerhalter von Semicorex für die PSS-Ätzung wurde für die anspruchsvollsten Epitaxiegeräteanwendungen entwickelt. Unser hochreiner Graphitträger hält rauen Umgebungen, hohen Temperaturen und aggressiver chemischer Reinigung stand. Der mit SiC beschichtete Träger verfügt über hervorragende Wärmeverteilungseigenschaften, eine hohe Wärmeleitfähigkeit und ist kostengünstig. Unsere Produkte sind in vielen europäischen und amerikanischen Märkten weit verbreitet und wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.

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Produktbeschreibung

Bei Semicorex haben wir den Ätzträgerhalter für die PSS-Ätzung speziell für die rauen Umgebungen entwickelt, die für epitaktisches Wachstum und Wafer-Handhabungsprozesse erforderlich sind. Unser hochreiner Graphitträger ist ideal für Dünnschichtabscheidungsphasen wie MOCVD, Epitaxie-Suszeptoren, Pancake- oder Satellitenplattformen und Wafer-Handhabungsprozesse wie Ätzen. Der mit SiC beschichtete Träger weist eine hohe Hitze- und Korrosionsbeständigkeit, hervorragende Wärmeverteilungseigenschaften und eine hohe Wärmeleitfähigkeit auf. Unsere Produkte sind kostengünstig und bieten einen guten Preisvorteil.

Kontaktieren Sie uns noch heute, um mehr über unseren Ätzträgerhalter für PSS-Ätzung zu erfahren.

Parameter des Ätzträgerhalters für die PSS-Ätzung

Hauptspezifikationen der CVD-SIC-Beschichtung
SiC-CVD-Eigenschaften
Kristallstruktur	FCC-β-Phase
Dichte	g/cm³	3.21
Härte	Vickershärte	2500
Körnung	μm	2~10
Chemische Reinheit	%	99.99995
Wärmekapazität	J kg-1 K-1	640
Sublimationstemperatur	℃	2700
Biegekraft	MPa (RT 4-Punkt)	415
Elastizitätsmodul	Gpa (4-Punkt-Biegung, 1300 ℃)	430
Wärmeausdehnung (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Wärmeleitfähigkeit	(W/mK)	300