- English
- Español
- Português
- русский
- Français
- 日本語
- Deutsch
- tiếng Việt
- Italiano
- Nederlands
- ภาษาไทย
- Polski
- 한국어
- Svenska
- magyar
- Malay
- বাংলা ভাষার
- Dansk
- Suomi
- हिन्दी
- Pilipino
- Türkçe
- Gaeilge
- العربية
- Indonesia
- Norsk
- تمل
- český
- ελληνικά
- український
- Javanese
- فارسی
- தமிழ்
- తెలుగు
- नेपाली
- Burmese
- български
- ລາວ
- Latine
- Қазақша
- Euskal
- Azərbaycan
- Slovenský jazyk
- Македонски
- Lietuvos
- Eesti Keel
- Română
- Slovenski
- मराठी
- Srpski језик
China TaC-Beschichtung Hersteller, Lieferanten, Fabrik
TaC-Beschichtungsgraphit wird hergestellt, indem die Oberfläche eines hochreinen Graphitsubstrats mit einer feinen Schicht Tantalkarbid durch ein proprietäres CVD-Verfahren (Chemical Vapour Deposition) beschichtet wird.
Tantalcarbid (TaC) ist eine Verbindung, die aus Tantal und Kohlenstoff besteht. Es verfügt über metallische elektrische Leitfähigkeit und einen außergewöhnlich hohen Schmelzpunkt, was es zu einem feuerfesten Keramikmaterial macht, das für seine Festigkeit, Härte sowie Hitze- und Verschleißfestigkeit bekannt ist. Der Schmelzpunkt von Tantalkarbiden erreicht je nach Reinheit seinen Höhepunkt bei etwa 3880 °C und weist einen der höchsten Schmelzpunkte unter den binären Verbindungen auf. Dies macht es zu einer attraktiven Alternative, wenn höhere Temperaturanforderungen die Leistungsfähigkeit von Verbindungshalbleiter-Epitaxieprozessen wie MOCVD und LPE übersteigen.
Materialdaten der Semicorex TaC-Beschichtung
|
Projekte |
Parameter |
|
Dichte |
14,3 (gm/cm³) |
|
Emissionsgrad |
0.3 |
|
WAK (×10-6/K) |
6.3 |
|
Härte (HK) |
2000 |
|
Widerstand (Ohm-cm) |
1×10-5 |
|
Thermische Stabilität |
<2500℃ |
|
Änderung der Graphitdimension |
-10~-20um (Referenzwert) |
|
Beschichtungsdicke |
≥20um typischer Wert (35um±10um) |
|
|
|
|
Die oben genannten Werte sind typische Werte |
|
- View as
Poröse Tantalkarbidringe
Poröse Tantalkarbidringe von Semicorex sind leistungsstarke feuerfeste Komponenten, die speziell für den PVT-Prozess (Physical Vapour Transport) des Kristallwachstums von Siliziumkarbid (SiC) entwickelt wurden und über eine monolithische Sinterstruktur verfügen, die außergewöhnliche thermische Stabilität und kontrollierte Gasdurchlässigkeit bietet.*
WeiterlesenAnfrage absenden
TaC-beschichtete Graphitwafer-Suszeptoren
Semicorex TaC-beschichtete Graphit-Wafer-Suszeptoren sind hochmoderne Komponenten, die typischerweise zur stabilen Unterstützung und Positionierung der Halbleiter-Wafer während moderner Halbleiter-Epitaxieprozesse eingesetzt werden. Durch den Einsatz modernster Produktionstechnologien und ausgereifter Fertigungserfahrung ist Semicorex bestrebt, unseren geschätzten Kunden maßgeschneiderte TaC-beschichtete Graphit-Wafer-Suszeptoren in marktführender Qualität zu liefern.
WeiterlesenAnfrage absenden
CVD-TaC-beschichtete Suszeptoren
Semicorex CVD TaC-beschichtete Suszeptoren sind Hochleistungs-Graphit-Suszeptoren mit einer dichten TaC-Beschichtung, die für eine hervorragende thermische Gleichmäßigkeit und Korrosionsbeständigkeit für anspruchsvolle epitaktische SiC-Wachstumsprozesse ausgelegt sind. Semicorex kombiniert fortschrittliche CVD-Beschichtungstechnologie mit strenger Qualitätskontrolle, um langlebige, kontaminationsarme Suszeptoren bereitzustellen, denen globale SiC-Epi-Hersteller vertrauen.*
WeiterlesenAnfrage absenden
Mit Tantalkarbid beschichtete Führungsringe
Die mit Tantalkarbid beschichteten Führungsringe von Semicorex sind die leistungsstarken Ringkomponenten, die in Geräten zur Halbleiterkristallzüchtung verwendet werden. Sie wurden speziell entwickelt, um während des Kristallwachstums einen geeigneten Temperaturgradienten und eine stabile Luftströmungsumgebung zu schaffen. Wenn Sie sich für mit Tantalkarbid beschichtete Führungsringe von Semicorex entscheiden, profitieren Sie von einer beispiellosen Beschichtungstechnologie und einem hocheffizienten und stabilen Produktionserlebnis.
WeiterlesenAnfrage absenden
TaC-beschichteter Graphittiegel
Der mit TaC beschichtete Graphittiegel von Semicorex wird aus Graphit mit Tantalkarbidbeschichtung im CVD-Verfahren hergestellt, dem am besten geeigneten Material für den Halbleiterherstellungsprozess. Semicorex ist ein Unternehmen, das sich konsequent auf die CVD-Keramikbeschichtung spezialisiert hat und die besten Materiallösungen in der Halbleiterindustrie bietet.*
WeiterlesenAnfrage absenden
TaC-beschichtete Komponenten im epitaktischen Wachstum
Semicorex TaC-beschichtete Komponenten im epitaktischen Wachstum sind wertvolle maschinell bearbeitete Teile, die sich im Lufteinlass im Epitaxieprozess in Halbleitern befinden. Semicorex ist ein erstklassiges Unternehmen, das sich auf CVD-TaC-Beschichtungstechnologie in China spezialisiert hat und Produkte weltweit exportiert.*
WeiterlesenAnfrage absenden
Semicorex produziert seit vielen Jahren TaC-Beschichtung und ist einer der professionellen TaC-Beschichtung Hersteller und Lieferanten in China. Sobald Sie unsere fortschrittlichen und langlebigen Produkte kaufen, die in Großpackungen geliefert werden, garantieren wir die große Menge in schneller Lieferung. Im Laufe der Jahre haben wir unseren Kunden einen maßgeschneiderten Service geboten. Kunden sind mit unseren Produkten und unserem exzellenten Service zufrieden. Wir freuen uns aufrichtig darauf, Ihr zuverlässiger langfristiger Geschäftspartner zu werden! Willkommen, um Produkte aus unserer Fabrik zu kaufen.
