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China CVD-Ofen Hersteller, Lieferanten, Fabrik

CVD-Öfen für den chemischen Gasphasenabscheidungsprozess (CVD). Bei der chemischen Gasphasenabscheidung handelt es sich um einen Prozess, bei dem durch eine chemische Reaktion zwischen verdampften Vorläufergasen und einer erhitzten Oberfläche ein dünner Film auf einem Substrat abgeschieden wird.



CVD-Öfen bestehen typischerweise aus einer Vakuumkammer, einem Gaszufuhrsystem, einem Heizsystem und einem Substrathalter. Die Vakuumkammer dient dazu, Luft und andere Gase aus der Abscheidungsumgebung zu entfernen, um zu verhindern, dass Verunreinigungen den Abscheidungsprozess beeinträchtigen. Das Gaszufuhrsystem liefert die Vorläufergase an die Substratoberfläche, wo sie unter Bildung des gewünschten dünnen Films reagieren. Das Heizsystem erhitzt das Substrat auf die für die Reaktion erforderliche Temperatur. Der Substrathalter dient dazu, das Substrat während des Abscheidungsprozesses an Ort und Stelle zu halten.


Beim CVD-Prozess werden die Vorläufergase in die Vakuumkammer eingeleitet und auf eine Temperatur erhitzt, bei der sie sich zersetzen und unter Bildung eines dünnen Films auf dem erhitzten Substrat reagieren. Temperatur und Druck der Abscheidungsumgebung werden sorgfältig kontrolliert, um sicherzustellen, dass die gewünschten Filmeigenschaften erreicht werden.


CVD-Öfen werden in der Halbleiterindustrie häufig zur Abscheidung dünner Schichten für die Herstellung mikroelektronischer Geräte wie integrierter Schaltkreise und Solarzellen eingesetzt. Sie werden auch bei der Herstellung fortschrittlicher Materialien wie Beschichtungen, optischen Fasern und Supraleitern verwendet.

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CVD-Öfen zur chemischen Gasphasenabscheidung

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CVD- und CVI-Vakuumofen

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