Semicorex SiC-beschichtete Gasumleitungsscheiben sind die unverzichtbaren Graphitkomponenten, die in der Halbleiter-Epitaxieausrüstung eingesetzt werden. Sie wurden speziell zur Regulierung des Reaktionsgasflusses und zur Förderung einer gleichmäßigen Gasverteilung innerhalb der Reaktionskammer entwickelt. Wählen Sie Semicorex, wählen Sie die optimalen Gasumleitungslösungen für hochwertige Wafer-Epitaxie-Ergebnisse.
WeiterlesenAnfrage absendenSemicorex-Rippen aus massivem Siliziumkarbid sind hochleistungsfähige Komponenten, die präzisionsgefertigt aus massivem CVD-SiC hergestellt werden und hauptsächlich in Hochtemperaturöfen in Halbleiter-Wärmebehandlungsanlagen verwendet werden. Semicorex ist bestrebt, unseren geschätzten Kunden maßgeschneiderte Rippen aus massivem Siliziumkarbid in marktführender Qualität anzubieten und freut sich darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.
WeiterlesenAnfrage absendenSemicorex-Einkristall-Siliziumelektroden dienen während des Wafer-Ätzprozesses sowohl als Elektroden als auch als Ätzgaswege. Die einkristallinen Siliziumelektroden von Semicorex sind unverzichtbare Siliziumkomponenten, die speziell für die Herstellung hochwertiger Halbleiterätze entwickelt wurden und dabei helfen können, die Präzision und Gleichmäßigkeit des Ätzens zu verbessern.
WeiterlesenAnfrage absendenSemicorex C/C-Verbundtiegel-Stützstäbe sind die entscheidenden Stützkomponenten, die speziell für die Herstellung von einkristallinem Silizium mittels der Czochralski-(CZ)-Wachstumsmethode entwickelt wurden und den C/C-Verbundtiegel und sein inneres geschmolzenes Silizium im thermischen Hochtemperaturfeld stabil stützen können. Wählen Sie Semicorex, wählen Sie die optimalen unterstützenden Lösungen für hochwertiges einkristallines Siliziumwachstum.
WeiterlesenAnfrage absendenSemicorex Cantilever Paddles sind präzisionsgefertigte Komponenten, die für Hochtemperatur- und hochreine Halbleiterverarbeitungsanwendungen entwickelt wurden. Semicorex bietet hochwertige Cantilever-Paddles, um die anspruchsvollen Anforderungen moderner Wafer-Handhabungs- und Wärmemanagementsysteme zu erfüllen.*
WeiterlesenAnfrage absendenDer SiC-Wafer-Träger von Semicorex besteht aus hochreiner Siliziumkarbid-Keramik mittels 3D-Drucktechnologie, was bedeutet, dass innerhalb kurzer Zeit hochpräzise Bearbeitungskomponenten hergestellt werden können. Semicorex ist bestrebt, seinen weltweiten Kunden qualifizierte, qualitativ hochwertige Produkte anzubieten.*
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