Als professioneller Hersteller möchten wir Ihnen Halbleiterkomponenten liefern. Semicorex ist Ihr Partner für Verbesserungen in der Halbleiterverarbeitung. Unsere Siliziumkarbidbeschichtungen sind dicht, hochtemperatur- und chemikalienbeständig und werden häufig im gesamten Zyklus der Halbleiterherstellung eingesetzt, einschließlich der Halbleiterwafer- und Waferverarbeitung sowie der Halbleiterfertigung.
Hochreine SiC-beschichtete Bauteile sind für Prozesse in der Halbleiterindustrie von entscheidender Bedeutung. Unser Angebot reicht von Graphit-Verbrauchsmaterialien für Kristallzüchtungs-Heißzonen (Heizungen, Tiegel-Suszeptoren, Isolierung) bis hin zu hochpräzisen Graphitkomponenten für Wafer-Verarbeitungsanlagen, wie beispielsweise mit Siliziumkarbid beschichteten Graphit-Suszeptoren für Epitaxie oder MOCVD.
Vorteile für Halbleiterprozesse
Die Dünnschichtabscheidungsphasen wie Epitaxie oder MOCVD oder die Wafer-Handhabungsprozesse wie Ätzen oder Ionenimplantation müssen hohen Temperaturen und aggressiver chemischer Reinigung standhalten. Semicorex liefert hochreine, mit Siliziumkarbid (SiC) beschichtete Graphitkonstruktionen, die eine hervorragende Hitzebeständigkeit und dauerhafte chemische Beständigkeit sowie gleichmäßige thermische Gleichmäßigkeit für eine gleichmäßige Dicke und Beständigkeit der Epi-Schicht bieten.
Kammerdeckel →
Kammerdeckel, die beim Kristallwachstum und bei der Wafer-Handhabung verwendet werden, müssen hohen Temperaturen und aggressiver chemischer Reinigung standhalten.
Endeffektor →
Der Endeffektor ist die Hand des Roboters, die Halbleiterwafer zwischen Positionen in Waferverarbeitungsgeräten und Trägern bewegt.
Einlassringe →
SiC-beschichteter Gaseinlassring durch MOCVD-Ausrüstung. Das Compound-Wachstum weist eine hohe Hitze- und Korrosionsbeständigkeit auf, was eine große Stabilität in extremen Umgebungen bietet.
Fokusring →
Semicorex liefert einen mit Siliziumkarbid beschichteten Fokusring, der wirklich stabil für RTA, RTP oder aggressive chemische Reinigung ist.
Waffelfutter →
Die ultraflachen Keramik-Vakuum-Wafer-Chucks von Semicorex sind mit hochreinem SiC beschichtet und werden im Wafer-Handhabungsprozess verwendet.
Die CVD-SiC-Beschichtung des Semicorex SiC Coating Heater bietet eine hervorragende Leistung beim Schutz von Heizelementen vor den rauen, korrosiven und reaktiven Umgebungen, die häufig bei Prozessen wie der metallorganischen chemischen Gasphasenabscheidung (MOCVD) und dem epitaktischen Wachstum auftreten.**
WeiterlesenAnfrage absendenDer metallische Duschkopf, bekannt als Gasverteilerplatte oder Gasduschkopf, ist eine wichtige Komponente, die häufig in Halbleiterfertigungsprozessen eingesetzt wird. Seine Hauptfunktion besteht darin, Gase gleichmäßig in einer Reaktionskammer zu verteilen und sicherzustellen, dass Halbleitermaterialien gleichmäßig mit dem Prozess in Kontakt kommen Gase.**
WeiterlesenAnfrage absendenDer MOCVD-Heizer von Semicorex ist eine hochentwickelte und sorgfältig konstruierte Komponente, die eine Vielzahl von Vorteilen bietet, darunter außergewöhnliche chemische Reinheit, thermische Effizienz, elektrische Leitfähigkeit, hohes Emissionsvermögen, Korrosionsbeständigkeit, Inoxidierbarkeit und mechanische Festigkeit.**
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