Als professioneller Hersteller möchten wir Ihnen Halbleiterkomponenten liefern. Semicorex ist Ihr Partner für Verbesserungen in der Halbleiterverarbeitung. Unsere Siliziumkarbidbeschichtungen sind dicht, hochtemperatur- und chemikalienbeständig und werden häufig im gesamten Zyklus der Halbleiterherstellung eingesetzt, einschließlich der Halbleiterwafer- und Waferverarbeitung sowie der Halbleiterfertigung.
Hochreine SiC-beschichtete Bauteile sind für Prozesse in der Halbleiterindustrie von entscheidender Bedeutung. Unser Angebot reicht von Graphit-Verbrauchsmaterialien für Kristallzüchtungs-Heißzonen (Heizungen, Tiegel-Suszeptoren, Isolierung) bis hin zu hochpräzisen Graphitkomponenten für Wafer-Verarbeitungsanlagen, wie beispielsweise mit Siliziumkarbid beschichteten Graphit-Suszeptoren für Epitaxie oder MOCVD.
Vorteile für Halbleiterprozesse
Die Dünnschichtabscheidungsphasen wie Epitaxie oder MOCVD oder die Wafer-Handhabungsprozesse wie Ätzen oder Ionenimplantation müssen hohen Temperaturen und aggressiver chemischer Reinigung standhalten. Semicorex liefert hochreine, mit Siliziumkarbid (SiC) beschichtete Graphitkonstruktionen, die eine hervorragende Hitzebeständigkeit und dauerhafte chemische Beständigkeit sowie gleichmäßige thermische Gleichmäßigkeit für eine gleichmäßige Dicke und Beständigkeit der Epi-Schicht bieten.
Kammerdeckel →
Kammerdeckel, die beim Kristallwachstum und bei der Wafer-Handhabung verwendet werden, müssen hohen Temperaturen und aggressiver chemischer Reinigung standhalten.
Endeffektor →
Der Endeffektor ist die Hand des Roboters, die Halbleiterwafer zwischen Positionen in Waferverarbeitungsgeräten und Trägern bewegt.
Einlassringe →
SiC-beschichteter Gaseinlassring durch MOCVD-Ausrüstung. Das Compound-Wachstum weist eine hohe Hitze- und Korrosionsbeständigkeit auf, was eine große Stabilität in extremen Umgebungen bietet.
Fokusring →
Semicorex liefert einen mit Siliziumkarbid beschichteten Fokusring, der wirklich stabil für RTA, RTP oder aggressive chemische Reinigung ist.
Waffelfutter →
Die ultraflachen Keramik-Vakuum-Wafer-Chucks von Semicorex sind mit hochreinem SiC beschichtet und werden im Wafer-Handhabungsprozess verwendet.
Semicorex SiC-Prozessrohre werden aus hochreiner SiC-Keramik mit CVD-SiC-Beschichtung hergestellt und eignen sich für horizontale Öfen in der Halbleiterindustrie. Im Hinblick auf die Produktqualität und den Kundendienst ist Semicorex derjenige, der qualitativ hochwertige Geschäfte mit seinen weltweiten Kunden tätigen möchte.*
WeiterlesenAnfrage absendenDas hochreine SiC-Cantilever-Paddel von Semicorex wird aus hochreiner gesinterter SiC-Keramik hergestellt, die ein Strukturteil in horizontalen Halbleiteröfen ist. Semicorex ist ein erfahrenes Unternehmen für die Lieferung von SiC-Komponenten in der Halbleiterindustrie.*
WeiterlesenAnfrage absendenDas planare Target aus monokristallinem Silizium von Semicorex ist eine entscheidende Komponente in der hochmodernen Halbleiterfertigungsindustrie. Es wird aus hochwertigem monokristallinem Siliziummaterial hergestellt und zeichnet sich durch eine hochgeordnete Kristallstruktur und bemerkenswerte Reinheit aus. Diese Eigenschaften machen es zu einer idealen Lösung für die Herstellung zuverlässiger, leistungsstarker Halbleiterfilme und optischer Filme.
WeiterlesenAnfrage absendenSemicorex-Siliziumkassettenboote sind spezielle Träger, die zu 99,9999999 % aus hochreinem monokristallinem und polykristallinem Silizium hergestellt werden und sich insbesondere auf die Herstellung von Hochleistungshalbleitern konzentrieren. Wenn Sie sich für Semicorex entscheiden, profitieren Sie von zuverlässiger Qualität, kundenspezifischen Dienstleistungen und erhöhter Produktivität.
WeiterlesenAnfrage absendenDas individuell angepasste Spannfutter aus poröser Keramik ist die überlegene Lösung zum Spannen und Fixieren von Werkstücken, die ausschließlich für die Halbleiterfertigung entwickelt wurde. Wenn Sie sich für Semicorex entscheiden, profitieren Sie von zuverlässiger Qualität, kundenspezifischen Dienstleistungen und erhöhter Produktivität.
WeiterlesenAnfrage absendenEinkristalliner Silizium-Duschkopf, bekannt als Gassprühkopf oder Gasverteilungsplatte, ist eine weit verbreitete Gasverteilungsvorrichtung in Halbleiterfertigungsprozessen für wichtige Prozessschritte wie Reinigen, Ätzen und Abscheiden. Hochwertige und kostengünstige Duschköpfe aus einkristallinem Silizium sind für die Verbesserung der Präzision und Qualität der Chipherstellung in der Halbleiterindustrie unerlässlich.
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