China Duschkopf Hersteller, Lieferanten, Fabrik

Ein Duschkopf aus SiC (Siliziumkarbid) ist eine spezielle Komponente, die in verschiedenen industriellen Prozessen, insbesondere in der Halbleiterfertigungsindustrie, verwendet wird. Es ist darauf ausgelegt, Prozessgase während der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD) und epitaktischen Wachstumsprozessen gleichmäßig und präzise zu verteilen und zuzuführen.

 

Der Duschkopf hat die Form einer Scheibe oder Platte mit mehreren gleichmäßig verteilten Löchern oder Düsen auf seiner Oberfläche. Diese Löcher dienen als Auslass für die Prozessgase, sodass diese in die Prozesskammer oder Reaktionskammer injiziert werden können. Größe, Form und Verteilung der Löcher können je nach spezifischer Anwendung und Prozessanforderungen variieren.

 

Einer der Hauptvorteile der Verwendung eines SiC-Duschkopfs ist seine hervorragende Wärmeleitfähigkeit. Diese Eigenschaft ermöglicht eine effiziente Wärmeübertragung und eine gleichmäßige Temperaturverteilung über die Duschkopfoberfläche, verhindert Hotspots und sorgt für gleichbleibende Prozessbedingungen. Die verbesserte Wärmeleitfähigkeit ermöglicht außerdem eine schnelle Abkühlung des Duschkopfs nach dem Prozess, wodurch Ausfallzeiten minimiert und die Gesamtproduktivität gesteigert werden.

 

SiC-Duschköpfe sind äußerst langlebig und verschleißfest, selbst wenn sie längere Zeit korrosiven Gasen und hohen Temperaturen ausgesetzt sind. Diese Langlebigkeit führt zu längeren Wartungsintervallen und geringeren Ausfallzeiten der Geräte, was zu Kosteneinsparungen und einer verbesserten Prozesszuverlässigkeit führt.

 

Zusätzlich zu ihrer Robustheit bieten SiC-Duschköpfe hervorragende Möglichkeiten zur Gasverteilung. Die präzise konstruierten Lochmuster und -konfigurationen gewährleisten einen gleichmäßigen Gasfluss und eine gleichmäßige Verteilung über die Substratoberfläche und fördern so eine gleichmäßige Filmabscheidung und eine verbesserte Geräteleistung. Die gleichmäßige Gasverteilung trägt auch dazu bei, Schwankungen in der Filmdicke, Zusammensetzung und anderen kritischen Parametern zu minimieren und trägt so zu einer verbesserten Prozesskontrolle und Ausbeute bei.

 

Semicorex bietet einen Duschkopf aus gesintertem Siliziumkarbid-Halbleiter mit niedrigem Widerstand an. Wir sind in der Lage, fortschrittliche Keramikmaterialien kundenspezifisch zu entwickeln und zu liefern und nutzen dabei eine Vielzahl einzigartiger Fähigkeiten.




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CVD-SiC-Duschkopf

CVD-SiC-Duschkopf

Der Semicorex CVD-SiC-Duschkopf bietet Langlebigkeit, hervorragendes Wärmemanagement und Beständigkeit gegen chemische Zersetzung und ist somit eine geeignete Wahl für anspruchsvolle CVD-Prozesse in der Halbleiterindustrie. Semicorex ist bestrebt, Qualitätsprodukte zu wettbewerbsfähigen Preisen anzubieten. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.

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CVD-SiC-beschichteter Graphit-Duschkopf

CVD-SiC-beschichteter Graphit-Duschkopf

In einer Plasmavorrichtung zum Ätzen und zur chemischen Gasphasenabscheidung (CVD) von Materialien auf Wafern werden Prozessgase durch einen CVD-SiC-beschichteten Graphit-Duschkopf in eine Prozesskammer geleitet. Semicorex ist bestrebt, Qualitätsprodukte zu wettbewerbsfähigen Preisen anzubieten. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.

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Semicorex produziert seit vielen Jahren Duschkopf und ist einer der professionellen Duschkopf Hersteller und Lieferanten in China. Sobald Sie unsere fortschrittlichen und langlebigen Produkte kaufen, die in Großpackungen geliefert werden, garantieren wir die große Menge in schneller Lieferung. Im Laufe der Jahre haben wir unseren Kunden einen maßgeschneiderten Service geboten. Kunden sind mit unseren Produkten und unserem exzellenten Service zufrieden. Wir freuen uns aufrichtig darauf, Ihr zuverlässiger langfristiger Geschäftspartner zu werden! Willkommen, um Produkte aus unserer Fabrik zu kaufen.