Das Semicorex SiC Wafer Tray ist ein wichtiger Bestandteil des MOCVD-Prozesses (Metal-Organic Chemical Vapour Deposition) und wurde sorgfältig entwickelt, um Halbleiterwafer während des wesentlichen Schritts der epitaktischen Schichtabscheidung zu stützen und zu erhitzen. Dieses Tablett ist ein wesentlicher Bestandteil der Halbleiterbauelementfertigung, bei der die Präzision des Schichtwachstums von größter Bedeutung ist. Wir bei Semicorex widmen uns der Herstellung und Lieferung leistungsstarker SiC-Wafer-Trays, die Qualität mit Kosteneffizienz verbinden.
WeiterlesenAnfrage absendenDie MOCVD-Suszeptoren von Semicorex verkörpern den Gipfel der Handwerkskunst, Ausdauer und Zuverlässigkeit für komplexe Graphitepitaxie- und präzise Wafer-Handhabungsaufgaben. Diese Suszeptoren sind bekannt für ihre hohe Dichte, außergewöhnliche Ebenheit und hervorragende Wärmekontrolle, was sie zur ersten Wahl für anspruchsvolle Fertigungsumgebungen macht. Wir bei Semicorex widmen uns der Herstellung und Lieferung leistungsstarker MOCVD-Suszeptoren, die Qualität mit Kosteneffizienz verbinden.
WeiterlesenAnfrage absendenDie Semicorex-Platte für epitaktisches Wachstum ist ein entscheidendes Element, das speziell für die Feinheiten epitaktischer Prozesse entwickelt wurde. Unser Angebot lässt sich an unterschiedliche Spezifikationen und Vorlieben anpassen und bietet eine individuell zugeschnittene Lösung, die nahtlos zu Ihren individuellen Betriebsanforderungen passt. Wir bieten eine Reihe von Anpassungsoptionen an, von Größenänderungen bis hin zu Variationen in der Beschichtungsanwendung, die uns in die Lage versetzen, ein Produkt zu entwickeln und zu liefern, das in der Lage ist, die Leistung in verschiedenen Anwendungsszenarien zu verbessern. Wir bei Semicorex widmen uns der Herstellung und Lieferung von Hochleistungsplatten für epitaktisches Wachstum, die Qualität mit Kosteneffizienz verbinden.
WeiterlesenAnfrage absendenDer Semicorex Wafer Carrier für MOCVD, der genau auf die Anforderungen der metallorganischen chemischen Gasphasenabscheidung (MOCVD) zugeschnitten ist, erweist sich als unverzichtbares Werkzeug bei der Verarbeitung von einkristallinem Si oder SiC für hochintegrierte Schaltkreise. Die Zusammensetzung des Wafer-Trägers für MOCVD zeichnet sich durch beispiellose Reinheit, Beständigkeit gegenüber erhöhten Temperaturen und korrosiven Umgebungen sowie hervorragende Dichtungseigenschaften zur Aufrechterhaltung einer makellosen Atmosphäre aus. Wir bei Semicorex widmen uns der Herstellung und Lieferung leistungsstarker Waferträger für MOCVD, die Qualität mit Kosteneffizienz verbinden.
WeiterlesenAnfrage absendenSemicorex SiC-Pulver, auch als Siliziumkarbidpulver bekannt, ist ein fein gemahlenes Material, das überwiegend aus N-Typ-α-Phasen-Siliziumkarbid besteht. Semicorex ist bestrebt, Qualitätsprodukte zu wettbewerbsfähigen Preisen anzubieten. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.
WeiterlesenAnfrage absendenSemicorex N-Typ-Siliziumkarbidpulver (SiC) ist ein hochreines, dotiertes SiC-Material, das speziell für fortgeschrittene Kristallwachstumsanwendungen entwickelt wurde. Semicorex ist bestrebt, Qualitätsprodukte zu wettbewerbsfähigen Preisen anzubieten. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.
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