Der SiC-Bootshalter von Semicorex ist auf innovative Weise aus SiC gefertigt und speziell auf zentrale Aufgaben in den Bereichen Photovoltaik, Elektronik und Halbleiter zugeschnitten. Der mit Präzision konstruierte Semicorex SiC-Bootshalter bietet eine schützende, stabile Umgebung für Wafer in jeder Phase – sei es Verarbeitung, Transport oder Lagerung. Sein sorgfältiges Design gewährleistet Präzision in den Abmessungen und Gleichmäßigkeit, was entscheidend für die Minimierung der Waferverformung und die Maximierung der Betriebsausbeute ist.
WeiterlesenAnfrage absendenSemicorex PBN/PG-Heizungen (Pyrolytisches Bornitrid/Pyrolytischer Graphit) werden aus fortschrittlichen Bornitrid-Keramikmaterialien hergestellt und sorgfältig verarbeitet, um extremen Temperaturen von über 1700 °C standzuhalten. Semicorex ist bestrebt, Qualitätsprodukte zu wettbewerbsfähigen Preisen anzubieten. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.
WeiterlesenAnfrage absendenSemicorex PBN-Heizfutter, gefertigt aus Bornitrid-Keramik, stehen an der Spitze modernster Wärmemanagementlösungen. Semicorex ist bestrebt, Qualitätsprodukte zu wettbewerbsfähigen Preisen anzubieten. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.
WeiterlesenAnfrage absendenPyrolytische Bornitrid-Heizgeräte von Semicorex repräsentieren den Gipfel der Leistung und Zuverlässigkeit im Bereich der Hochtemperaturanwendungen. Semicorex ist bestrebt, Qualitätsprodukte zu wettbewerbsfähigen Preisen anzubieten. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.
WeiterlesenAnfrage absendenSemicorex PBN-Heizungen verfügen über ein ausgeklügeltes dreischichtiges Design, das darauf ausgelegt ist, Leistungsmaßstäbe neu zu definieren. Im Mittelpunkt steht ein Fundament aus hochreinem pyrolytischem Bornitrid (PBN), das für seine außergewöhnliche Wärmeleitfähigkeit und robuste strukturelle Integrität bekannt ist. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.
WeiterlesenAnfrage absendenDer Semicorex CVD-Duschkopf mit SiC-Beschichtung stellt eine fortschrittliche Komponente dar, die für Präzision in industriellen Anwendungen entwickelt wurde, insbesondere im Bereich der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD) und der plasmaunterstützten chemischen Gasphasenabscheidung (PECVD). Dieser spezielle CVD-Duschkopf mit SiC-Beschichtung dient als kritischer Kanal für die Zufuhr von Vorläufergasen oder reaktiven Spezies und erleichtert die präzise Abscheidung von Materialien auf der Oberfläche eines Substrats, was ein wesentlicher Bestandteil dieser anspruchsvollen Herstellungsprozesse ist.
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