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SiC-Fin
Semicorex SiC Fin ist eine hochreine Siliziumkarbid-Keramikkomponente, die präzise mit einer perforierten Scheibenstruktur für ein effizientes Gas- und Flüssigkeitsflussmanagement in Epitaxie- und Ätzgeräten entwickelt wurde. Semicorex liefert maßgeschneiderte, hochpräzise Komponenten, die eine überragende Haltbarkeit, chemische Beständigkeit und Leistungsstabilität in Halbleiterprozessumgebungen gewährleisten.*
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SiC-Wafer-Schleifplatte
Die fortschrittliche SiC-Wafer-Schleifplatte von Semicorex ist das Präzisionsbearbeitungsteil zur Erzielung einer extrem hohen Ebenheit auf Halbleiter-Waferoberflächen. Die Wahl der SiC-Wafer-Schleifplatte von Semicorex geht über die Auswahl eines Hochleistungswerkzeugs hinaus, sie sichert die optimale, genaue, stabile und effiziente Lösung für Wafer-Schleifanwendungen.
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C/C-Verbundbefestigungen
Die C/C-Verbundbefestigungen von Semicorex bestehen aus Hochleistungs-Kohlenstoff-Kohlenstoff-Verbundwerkstoffen, die einer Präzisionsbearbeitung unterzogen werden, um strenge Standards zu erfüllen, und alle speziell für extreme Hochtemperaturbedingungen entwickelt wurden. Was diese Verbindungselemente aus C/C-Verbundmaterial auszeichnet, ist ihre Kombination aus geringer Dichte, hervorragender Hochtemperaturbeständigkeit, hervorragender thermischer Stabilität und außergewöhnlicher chemischer Beständigkeit. Zusammen ergeben diese Eigenschaften eine Befestigungslösung, die sicher, zuverlässig und langlebig ist und sich perfekt für High-End-Geräte eignet.
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Maßgeschneidertes Spannfutter aus poröser Keramik
Das individuell angepasste Spannfutter aus poröser Keramik ist die überlegene Lösung zum Spannen und Fixieren von Werkstücken, die ausschließlich für die Halbleiterfertigung entwickelt wurde. Wenn Sie sich für Semicorex entscheiden, profitieren Sie von zuverlässiger Qualität, kundenspezifischen Dienstleistungen und erhöhter Produktivität.
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Tiegel aus Kohlenstoff-Kohlenstoff-Verbundwerkstoff
Die für thermische Feldsysteme entwickelten Kohlenstoff-Kohlenstoff-Verbundtiegel von Semicorex sind eine hochmoderne Lösung aus Kohlenstoff-Kohlenstoff-Verbundmaterialien, die hohen Temperaturen standhalten. Ihre außergewöhnliche Festigkeit, hervorragende Wärmeleitfähigkeit, starke chemische Stabilität und hervorragende Wärmeisolierung machen sie ideal zur Erleichterung des Kristallwachstums.
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Einkristall-Silikon-Duschkopf
Einkristalliner Silizium-Duschkopf, bekannt als Gassprühkopf oder Gasverteilungsplatte, ist eine weit verbreitete Gasverteilungsvorrichtung in Halbleiterfertigungsprozessen für wichtige Prozessschritte wie Reinigen, Ätzen und Abscheiden. Hochwertige und kostengünstige Duschköpfe aus einkristallinem Silizium sind für die Verbesserung der Präzision und Qualität der Chipherstellung in der Halbleiterindustrie unerlässlich.
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