Monokristalline Siliziumwafer

Bei der Herstellung vonmonokristalline SiliziumwaferMit der Czochralski-Methode (CZ) werden monokristalline Siliziumstäbe mit vollständiger Struktur und extrem geringer Verunreinigung hergestellt

Inhalt. Anschließend werden diese monokristallinen Siliziumstäbe einer präzisen Bearbeitung wie Schneiden, Schleifen, Polieren und Reinigen unterzogen, um zu monokristallinen Siliziumwafern verarbeitet zu werden. Diese monokristallinen Siliziumwafer weisen eine hohe Reinheit auf, insbesondere der Wafer auf IC-Ebene, der über 9 N (99,9999999 %) erreichen kann, wodurch eine hervorragende elektrische Leistung gewährleistet wird.

Monokristallines Silizium nimmt mehr als 90 % des Marktes für Halbleitermaterialien ein. Es ist derzeit das bedeutendste Halbleitermaterial und wird häufig in der Informationstechnologie und der Herstellung integrierter Schaltkreise eingesetzt.

Anwendungsbereiche:

1. Hochleistungs-Logikchips (z. B. CPU, GPU, FPGA), Speicherchips (z. B. DRAM, NAND-Flash) und analoge Chips (z. B. ADC und DAC) in der Industrie zur Herstellung integrierter Schaltkreise.

2. Elektronische High-End-Geräte (wie CMOS-Bildsensoren (CIS) und MEMS-Sensoren) in der Informationstechnologiebranche.

Wafer-Spezifikation:

Semicorex bietet seinen Kunden maßgeschneiderte Dienstleistungen und kann Wafer mit unterschiedlichem spezifischem Widerstand, Sauerstoffgehalt, Dicke und anderen Spezifikationen entsprechend den spezifischen Anforderungen verschiedener Kunden anpassen. Um Kunden bei der Lösung einer Reihe von Problemen zu unterstützen, die während des Produktionsprozesses auftreten, bieten wir auch fachkundigen technischen Support und Kundendienst an.