Boot mit Silikonsockel

Semicorex Silicon Pedestal Boat ist ein ultrareiner Waferträger, der mit hoher Reinheit und Präzision entwickelt wurde, um Hochtemperatur-Halbleiterprozesse wie Oxidation, Diffusion und LPCVD (Low Pressure Chemical Vapour Deposition) zu unterstützen. Dieser Waferträger besteht aus 9N (99,9999999 %)hochreines Siliziumum außergewöhnliche Sauberkeit, Stabilität des thermischen Ausdehnungskoeffizienten und mechanische Präzision für die Waferunterstützung und konsistente Prozesskontrolle in ultrareinen Umgebungen zu gewährleisten.

Da die Geometrien von Halbleiterbauelementen immer kleiner werden, ist der Bedarf an hochreinen und thermisch kompatiblen Wafer-Handhabungskomponenten noch nie so groß gewesen. Das Silizium-Sockelboot erfüllt diese Anforderungen mit hoher Maßgenauigkeit und unübertroffener Reinheit und eignet sich für den Einsatz in modernen Ofensystemen, die zwischen 1100 °C und 1250 °C betrieben werden.

Die Struktur des Siliziumboots kann an die Kundenanforderungen angepasst werden, einschließlich der Form der Nutstange, der Länge der Nutzähne, der Form, des Neigungswinkels und der gesamten Wafer-Ladekapazität. Hochtemperatur-Siliziumboote können Kontaktschäden an Siliziumwafern wirksam reduzieren und so die Prozessausbeute verbessern. Sein Hochtemperatur-Design mit „rutschfreien Türmen“ stützt Wafer nur an der Spitze des Stützzahns. Im Vergleich zu Siliziumkarbid ist Silizium relativ weniger hart, wodurch mechanische Schäden an Wafern reduziert werden, wodurch die Gitterqualität verbessert und die Produktionskosten effektiv gesenkt werden.

Das Sockelboot ist in erhältlichSemicorex Silicon Pedestal Boat ist ein ultrareiner Waferträger, der mit hoher Reinheit und Präzision entwickelt wurde, um Hochtemperatur-Halbleiterprozesse wie Oxidation, Diffusion und LPCVD (Low Pressure Chemical Vapour Deposition) zu unterstützen. Dieser Waferträger besteht aus 9N (99,9999999 %)um Kontaminationsrisiken im Zusammenhang mit Nicht-Silizium-Materialien zu beseitigen. Die Plattform hat die gleiche chemische Zusammensetzung wie aktiv genutzte Wafer, wodurch unerwünschte Reaktionen oder Ionendiffusion bei Hochtemperaturprozessen minimiert werden. Die Materialhomogenität reduziert die physikalische Identität von Partikeln und metallischen Verunreinigungen erheblich und sorgt so für eine gleichbleibend hohe Waferqualität und eine hohe Geräteausbeute über wiederholte Produktionszyklen.

Das Semicorex Silicon Pedestal Boat verfügt über präzise gestaltete Waferschlitze in Kombination mit vertikalen Stützstrukturen, die dafür sorgen, dass die Wafer während des Heizzyklus perfekt ausgerichtet und beabstandet bleiben. Seine Dimensionsstabilität ist hervorragend und stellt sicher, dass sich das Sockelboot bei extremen Temperaturen nicht verzieht, verbiegt oder verschiebt und sorgt so für eine gute Temperatur- und Gasverteilung über jeden Wafer. Diese Dimensionsstabilität wirkt sich unmittelbar positiv auf die Gleichmäßigkeit der Filmdicke während der Oxidation und Diffusion aus und sorgt für eine geringere Anzahl von Fehlern sowie eine bessere Wiederholbarkeit des Prozesses.

Der Hauptvorteil des Silizium-Sockelboots sind seine optimierten mechanischen und thermischen Eigenschaften. Die Härte von Silizium im Vergleich zu SiC oder Quarz trägt dazu bei, die Bildung von Mikrokratzern und Partikeln aufgrund von Wafervibrationen oder -bewegungen während der Wärmeausdehnung zu verringern. Dies gilt insbesondere für rückseitenempfindliche Wafer, bei denen die Integrität der Waferoberfläche für den Ertrag und die Geräteleistung von entscheidender Bedeutung ist.

Das Sockelboot verfügt über eine gute Wärmeleitfähigkeit und einen niedrigen Wärmeausdehnungskoeffizienten, der für Wärmeübertragungseigenschaften sorgt und gleichzeitig Form und strukturelle Stabilität bei mehreren Heiz- und Kühlzyklen beibehält. Das robuste Design sorgt außerdem für eine lange Lebensdauer bei minimaler Verformung unter extremen Ofenbedingungen.

Semicorex bietet kundenspezifische Designs für eine Vielzahl von Gerätekonfigurationen, einschließlich Waferdurchmesser, Schlitzanzahl, Sockelhöhe und Geometrievariationen. Jedes Produkt wird auf Reinheit geprüft, seine Abmessungen gemessen und auf Wärmeleitfähigkeit getestet, um die höchsten Standards im Halbleiterherstellungsprozess zu erfüllen.

Das Silizium-Sockelboot ist mit Oxidations- und Diffusionsprozessen sowie mit LPCVD- und Glühanwendungen kompatibel, die eine unübertroffene Temperaturgleichmäßigkeit und Kontaminationskontrolle erfordern. Das Silizium-Sockelboot ist mit anderen Siliziumofenkomponenten wie dem Injektorrohr, dem Auskleidungsrohr und dem Waferträger kompatibel und sorgt so für eine Material- und Wärmeanpassung im gesamten Verarbeitungssystem.