ICP-Plasmaätzsystem für den PSS-Prozess

Wählen Sie das ICP-Plasmaätzsystem von Semicorex für den PSS-Prozess für hochwertige Epitaxie- und MOCVD-Prozesse. Unser Produkt wurde speziell für diese Prozesse entwickelt und bietet eine hervorragende Hitze- und Korrosionsbeständigkeit. Mit einer sauberen und glatten Oberfläche eignet sich unser Träger perfekt für die Handhabung makelloser Waffeln.

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Produktbeschreibung

Das ICP-Plasmaätzsystem von Semicorex für den PSS-Prozess bietet eine hervorragende Hitze- und Korrosionsbeständigkeit für die Waferhandhabung und Dünnschichtabscheidungsprozesse. Unsere feine SiC-Kristallbeschichtung bietet eine saubere und glatte Oberfläche und gewährleistet eine optimale Handhabung makelloser Wafer.

Bei Semicorex konzentrieren wir uns darauf, unseren Kunden qualitativ hochwertige und kostengünstige Produkte anzubieten. Unser ICP-Plasmaätzsystem für den PSS-Prozess hat einen Preisvorteil und wird in viele europäische und amerikanische Märkte exportiert. Unser Ziel ist es, Ihr langfristiger Partner zu sein, der gleichbleibende Qualitätsprodukte und außergewöhnlichen Kundenservice liefert.

Kontaktieren Sie uns noch heute, um mehr über unser ICP-Plasmaätzsystem für den PSS-Prozess zu erfahren.

Parameter des ICP-Plasmaätzsystems für den PSS-Prozess

Hauptspezifikationen der CVD-SIC-Beschichtung
SiC-CVD-Eigenschaften
Kristallstruktur	FCC-β-Phase
Dichte	g/cm³	3.21
Härte	Vickershärte	2500
Körnung	μm	2~10
Chemische Reinheit	%	99.99995
Wärmekapazität	J kg-1 K-1	640
Sublimationstemperatur	℃	2700
Biegekraft	MPa (RT 4-Punkt)	415
Elastizitätsmodul	Gpa (4-Punkt-Biegung, 1300 ℃)	430
Wärmeausdehnung (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Wärmeleitfähigkeit	(W/mK)	300

Merkmale des ICP-Plasmaätzsystems für den PSS-Prozess

- Vermeiden Sie ein Abblättern und stellen Sie sicher, dass die Beschichtung auf der gesamten Oberfläche vorhanden ist

Oxidationsbeständigkeit bei hohen Temperaturen: Stabil bei hohen Temperaturen bis 1600 °C

Hohe Reinheit: hergestellt durch CVD-chemische Gasphasenabscheidung unter Hochtemperatur-Chlorierungsbedingungen.

Korrosionsbeständigkeit: hohe Härte, dichte Oberfläche und feine Partikel.

Korrosionsbeständigkeit: Säure, Alkali, Salz und organische Reagenzien.

- Erzielen Sie das beste laminare Gasströmungsmuster

- Gewährleistung der Gleichmäßigkeit des thermischen Profils

- Verhindern Sie jegliche Kontamination oder Diffusion von Verunreinigungen

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