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Siliziumkarbid-ICP-Ätzträger

Siliziumkarbid-ICP-Ätzträger

Suchen Sie einen zuverlässigen Waferträger für Ätzprozesse? Suchen Sie nicht weiter als den Siliziumkarbid-ICP-Ätzträger von Semicorex. Unser Produkt ist so konstruiert, dass es hohen Temperaturen und aggressiver chemischer Reinigung standhält und Haltbarkeit und Langlebigkeit gewährleistet. Mit einer sauberen und glatten Oberfläche eignet sich unser Träger perfekt für die Handhabung makelloser Wafer.

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Produktbeschreibung

Sorgen Sie mit dem Siliziumkarbid-ICP-Ätzträger von Semicorex für optimale laminare Gasströmungsmuster und ein gleichmäßiges thermisches Profil. Unser Produkt wurde entwickelt, um die bestmöglichen Ergebnisse für Dünnschichtabscheidungs- und Waferhandhabungsprozesse zu erzielen. Mit überlegener Hitze- und Korrosionsbeständigkeit ist unser Träger die perfekte Wahl für anspruchsvolle Anwendungen.

Bei Semicorex konzentrieren wir uns darauf, unseren Kunden qualitativ hochwertige und kostengünstige Produkte anzubieten. Unser Siliziumkarbid-ICP-Ätzträger hat einen Preisvorteil und wird in viele europäische und amerikanische Märkte exportiert. Unser Ziel ist es, Ihr langfristiger Partner zu sein, der gleichbleibende Qualitätsprodukte und außergewöhnlichen Kundenservice liefert.

Kontaktieren Sie uns noch heute, um mehr über unseren Siliziumkarbid-ICP-Ätzträger zu erfahren.


Parameter des Siliziumkarbid-ICP-Ätzträgers

Hauptspezifikationen der CVD-SIC-Beschichtung

SiC-CVD-Eigenschaften

Kristallstruktur

FCC β-Phase

Dichte

g/cm³

3.21

Härte

Vickers-Härte

2500

Körnung

μm

2~10

Chemische Reinheit

%

99.99995

Wärmekapazität

J·kg –1 ·K –1

640

Sublimationstemperatur

2700

Biegefestigkeit

MPa (RT 4-Punkt)

415

Elastizitätsmodul

Gpa (4pt Biegung, 1300â)

430

Wärmeausdehnung (CTE)

10-6K-1

4.5

Wärmeleitfähigkeit

(W/mK)

300


Merkmale des Siliziumkarbid-ICP-Ätzträgers

- Ablösen vermeiden und Beschichtung auf allen Oberflächen sicherstellen

Hochtemperatur-Oxidationsbeständigkeit: Stabil bei hohen Temperaturen bis zu 1600 °C

Hohe Reinheit: Hergestellt durch CVD-CVD unter Hochtemperatur-Chlorierungsbedingungen.

Korrosionsbeständigkeit: hohe Härte, dichte Oberfläche und feine Partikel.

Korrosionsbeständigkeit: Säure, Alkali, Salz und organische Reagenzien.

- Erzielen Sie das beste laminare Gasströmungsmuster

- Gewährleistung der Gleichmäßigkeit des thermischen Profils

- Verhindern Sie jegliche Kontamination oder Diffusion von Verunreinigungen





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