Als professioneller Hersteller möchten wir Ihnen SiC-Epitaxie anbieten. Und wir bieten Ihnen den besten Kundendienst und eine pünktliche Lieferung. Semicorex liefert CVD-Siliziumkarbid-beschichtete Graphit-Suszeptoren zur Unterstützung von Wafern. Ihre mit hochreinem Siliziumkarbid (SiC) beschichtete Graphitkonstruktion bietet eine hervorragende Hitzebeständigkeit, eine gleichmäßige thermische Gleichmäßigkeit für eine gleichmäßige Dicke und Beständigkeit der Epi-Schicht sowie eine dauerhafte chemische Beständigkeit. Die feine SiC-Kristallbeschichtung sorgt für eine saubere, glatte Oberfläche, was für die Handhabung von entscheidender Bedeutung ist, da makellose Wafer den Suszeptor an vielen Stellen über ihre gesamte Fläche berühren.
Die umfangreichen Eigenschaften der Semicorex SiC-beschichteten Epitaxiescheibe machen sie zu einem unverzichtbaren Bestandteil in der Halbleiterfertigung, wo Präzision, Haltbarkeit und Robustheit der Ausrüstung für den Erfolg von High-Tech-Halbleitergeräten von größter Bedeutung sind. Wir bei Semicorex widmen uns der Herstellung und Lieferung leistungsstarker SiC-beschichteter Epitaxiescheiben, die Qualität mit Kosteneffizienz verbinden.**
WeiterlesenAnfrage absendenDer mit Semicorex SiC beschichtete Stützring ist eine wesentliche Komponente für den epitaktischen Wachstumsprozess von Halbleitern. Semicorex ist bestrebt, Qualitätsprodukte zu wettbewerbsfähigen Preisen anzubieten. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.
WeiterlesenAnfrage absendenDer SiC-beschichtete Ring von Semicorex ist eine entscheidende Komponente im epitaktischen Wachstumsprozess von Halbleitern und wurde entwickelt, um den anspruchsvollen Anforderungen der modernen Halbleiterfertigung gerecht zu werden. Semicorex ist bestrebt, Qualitätsprodukte zu wettbewerbsfähigen Preisen anzubieten. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.
WeiterlesenAnfrage absendenDer Semicorex GaN Epitaxy Carrier ist von zentraler Bedeutung in der Halbleiterfertigung und integriert fortschrittliche Materialien und Präzisionstechnik. Dieser Träger zeichnet sich durch seine CVD-SiC-Beschichtung aus und bietet außergewöhnliche Haltbarkeit, thermische Effizienz und Schutzfunktionen, wodurch er sich in der Branche als herausragend erweist. Wir bei Semicorex widmen uns der Herstellung und Lieferung leistungsstarker GaN-Epitaxieträger, die Qualität mit Kosteneffizienz verbinden.
WeiterlesenAnfrage absendenDie SiC-beschichtete Waferscheibe von Semicorex stellt einen führenden Fortschritt in der Halbleiterfertigungstechnologie dar und spielt eine wesentliche Rolle im komplexen Prozess der Halbleiterherstellung. Diese mit größter Präzision gefertigte Scheibe besteht aus hochwertigem SiC-beschichtetem Graphit und bietet hervorragende Leistung und Haltbarkeit für Siliziumepitaxieanwendungen. Wir bei Semicorex widmen uns der Herstellung und Lieferung leistungsstarker SiC-beschichteter Waferscheiben, die Qualität mit Kosteneffizienz verbinden.
WeiterlesenAnfrage absendenDas Semicorex SiC Wafer Tray ist ein wichtiger Bestandteil des MOCVD-Prozesses (Metal-Organic Chemical Vapour Deposition) und wurde sorgfältig entwickelt, um Halbleiterwafer während des wesentlichen Schritts der epitaktischen Schichtabscheidung zu stützen und zu erhitzen. Dieses Tablett ist ein wesentlicher Bestandteil der Halbleiterbauelementfertigung, bei der die Präzision des Schichtwachstums von größter Bedeutung ist. Wir bei Semicorex widmen uns der Herstellung und Lieferung leistungsstarker SiC-Wafer-Trays, die Qualität mit Kosteneffizienz verbinden.
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