SiC-beschichtete Waferscheibe

Das Fundament der Semicorex SiC-beschichteten Waferscheibe besteht aus hochwertigem Graphit, der fachmännisch mit Chemical Vapour Deposition (CVD) SiC beschichtet ist. Diese fortschrittliche Konstruktion bietet eine außergewöhnliche Beständigkeit gegen thermische Schocks und chemische Zersetzung, verlängert die Lebensdauer der SiC-beschichteten Wafer-Scheibe erheblich und gewährleistet eine zuverlässige Leistung während des gesamten Halbleiterherstellungsprozesses.

Insbesondere zeichnet sich die SiC-beschichtete Wafer-Scheibe durch eine hervorragende Wärmeleitfähigkeit aus, die für eine effektive Wärmeableitung während der Halbleiterherstellung von entscheidender Bedeutung ist. Diese Funktion minimiert Wärmegradienten über die Waferoberfläche und fördert eine gleichmäßige Temperaturverteilung, die für die Erzielung der gewünschten Halbleitereigenschaften unerlässlich ist.

Die SiC-Beschichtung bietet robusten Schutz gegen chemische Korrosion und Thermoschock und bewahrt die Integrität der SiC-beschichteten Waferscheibe auch in rauen Prozessumgebungen. Diese verbesserte Haltbarkeit führt zu einer längeren Betriebslebensdauer und reduzierten Ausfallzeiten und trägt so zu einer höheren Produktivität und Kosteneffizienz in Halbleiterfertigungsanlagen bei.

Darüber hinaus kann die SiC-beschichtete Wafer Disc individuell an spezifische Anforderungen und Vorlieben angepasst werden. Wir bieten Anpassungsoptionen, die von Größenanpassungen bis hin zu Variationen in der Beschichtungsdicke reichen und so eine Designflexibilität ermöglichen, die die Leistung über verschiedene Anwendungen und Prozessparameter hinweg optimiert.