Wafer-Vakuum-Chuck

Die ultrareinen Keramikkomponenten von Semicorex sind perfekt für Lithographie- und Wafer-Handhabungsanwendungen der nächsten Generation geeignet und gewährleisten minimale Kontamination und bieten eine außergewöhnlich lange Lebensdauer. Unsere Wafer-Vakuum-Chucks haben einen guten Preisvorteil und decken viele der europäischen und amerikanischen Märkte ab. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.

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Produktbeschreibung

Der ultraflache Keramik-Wafer-Vakuum-Chuck von Semicorex ist mit hochreinem SiC beschichtet, das im Wafer-Handhabungsprozess verwendet wird. Halbleiter-Wafer-Vakuum-Chuck durch MOCVD-Ausrüstung Das Verbundwachstum weist eine hohe Hitze- und Korrosionsbeständigkeit auf, die eine große Stabilität in extremen Umgebungen aufweist und das Ertragsmanagement für die Halbleiterwafer-Verarbeitung verbessert. Konfigurationen mit geringem Oberflächenkontakt minimieren das Risiko von Rückseitenpartikeln für empfindliche Anwendungen.

Bei Semicorex konzentrieren wir uns auf die Bereitstellung hochwertiger, kostengünstiger Wafer-Vakuum-Chucks, priorisieren die Kundenzufriedenheit und bieten kostengünstige Lösungen. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner zu werden, der qualitativ hochwertige Produkte und einen außergewöhnlichen Kundenservice liefert.

Parameter des Wafer-Vakuum-Chucks

Hauptspezifikationen der CVD-SIC-Beschichtung
SiC-CVD-Eigenschaften
Kristallstruktur	FCC β-Phase
Dichte	g/cm³	3.21
Härte	Vickers-Härte	2500
Körnung	Î¼m	2~10
Chemische Reinheit	%	99.99995
Wärmekapazität	J·kg –1 ·K –1	640
Sublimationstemperatur	℃	2700
Biegefestigkeit	MPa (RT 4-Punkt)	415
Elastizitätsmodul	Gpa (4pt Biegung, 1300â)	430
Wärmeausdehnung (CTE)	10-6K-1	4.5
Wärmeleitfähigkeit	(W/mK)	300