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Kammerdeckel aus Siliziumkarbid
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Kammerdeckel aus Siliziumkarbid

Kammerdeckel aus Siliziumkarbid, die bei der Kristallzüchtung und der Verarbeitung von Wafern verwendet werden, müssen hohen Temperaturen und aggressiver chemischer Reinigung standhalten. Semicorex ist ein großer Hersteller und Lieferant von mit Siliziumkarbid beschichteten Graphitsuszeptoren in China. Unsere Produkte haben einen guten Preisvorteil und decken viele der europäischen und amerikanischen Märkte ab. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner zu werden.

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Produktbeschreibung

Kammerdeckel aus Siliziumkarbid, die bei der Einkristallzüchtung oder MOCVD oder bei der Verarbeitung von Wafern verwendet werden, müssen hohen Temperaturen und einer aggressiven chemischen Reinigung standhalten. Semicorex liefert eine mit hochreinem Siliziumkarbid (SiC) beschichtete Graphitkonstruktion, die eine überlegene Hitzebeständigkeit, gleichmäßige thermische Gleichmäßigkeit für eine konsistente Dicke und Beständigkeit der Epi-Schicht sowie eine dauerhafte chemische Beständigkeit bietet. Sie sind langlebig, um eine Kombination aus flüchtigen Vorläufergasen, Plasma und hohen Temperaturen zu erfahren.
Unser Siliziumkarbid-Kammerdeckel wurde entwickelt, um das beste laminare Gasströmungsmuster zu erzielen und ein gleichmäßiges thermisches Profil zu gewährleisten. Dies trägt dazu bei, jegliche Kontamination oder Diffusion von Verunreinigungen zu verhindern, wodurch ein qualitativ hochwertiges epitaxiales Wachstum auf dem Waferchip sichergestellt wird.
Kontaktieren Sie uns noch heute, um mehr über unseren Siliziumkarbid-Kammerdeckel zu erfahren.


Parameter des Siliziumkarbid-Kammerdeckels

Hauptspezifikationen der CVD-SIC-Beschichtung

SiC-CVD-Eigenschaften

Kristallstruktur

FCC β-Phase

Dichte

g/cm³

3.21

Härte

Vickers-Härte

2500

Körnung

μm

2~10

Chemische Reinheit

%

99.99995

Wärmekapazität

J·kg –1 ·K –1

640

Sublimationstemperatur

2700

Biegefestigkeit

MPa (RT 4-Punkt)

415

Elastizitätsmodul

Gpa (4pt Biegung, 1300â)

430

Wärmeausdehnung (CTE)

10-6K-1

4.5

Wärmeleitfähigkeit

(W/mK)

300


Merkmale des Siliziumkarbid-Kammerdeckels

â Ultraflache Funktionen

â Hochglanzpoliert

â Außergewöhnlich geringes Gewicht

â Hohe Steifigkeit

â Geringe thermische Ausdehnung

â Extreme Verschleißfestigkeit




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