Silizium-Wafer-Heizung

Semicorex ist ein großer Hersteller und Lieferant von mit Siliziumkarbid beschichtetem Graphit in China. Wir bieten Heizgeräte, Stütztiegel, Hitzeschilde und Isolierkomponenten für Prozesse und Materialien zur Einkristallzüchtung. Wir konzentrieren uns auf die Halbleiterindustrie, unser Silizium-Wafer-Heizgerät hat einen guten Preisvorteil und deckt viele europäische und amerikanische Märkte ab. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner zu werden.

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Produktbeschreibung

Der Semicorex-Siliziumwafer-Heizer ist mit MOCVD beschichtetes Siliziumkarbid, das im Hochtemperaturofen mit über 3000 °C in einer inerten Atmosphäre und 2200 °C im Vakuum betrieben werden kann. Die SiC-Beschichtung ist eine dichte, verschleißfeste Beschichtung aus Siliziumkarbid (SiC).
Unser Silizium-Wafer-Heizer verfügt über hohe Korrosions- und Hitzebeständigkeitseigenschaften sowie eine hervorragende Wärmeleitfähigkeit. Wir tragen SiC im chemischen Gasphasenabscheidungsverfahren (CVD) in dünnen Schichten auf den Graphit auf.
Bei Semicorex konzentrieren wir uns darauf, unseren Kunden qualitativ hochwertige und kostengünstige Produkte anzubieten. Unser Silizium-Wafer-Heizer hat einen Preisvorteil und wird in viele europäische und amerikanische Märkte exportiert. Unser Ziel ist es, Ihr langfristiger Partner zu sein, der gleichbleibende Qualitätsprodukte und außergewöhnlichen Kundenservice liefert.

Merkmale der Silizium-Wafer-Heizung

- Siliziumkarbid-Beschichtungen nutzen das CVD-Verfahren, um die Lebensdauer zu verbessern.
- Wärmedämmung aus hochleistungsgereinigtem Hartkohlenstoff.
- Sowohl das Graphitsubstrat als auch die Siliziumkarbidschicht verfügen über eine hohe Wärmeleitfähigkeit und hervorragende Wärmeverteilungseigenschaften.
- Hochreine Graphit- und SiC-Beschichtung für Pinhole-Resistenz und längere Lebensdauer

Wir können Antioxidations- und langlebige Graphittiegel, Graphitformen und alle Teile der Graphitheizung liefern.