Siliziumkarbid-Prozessrohr

Das Siliziumkarbid-Prozessrohr von Semicorex ist eine entscheidende Komponente im Bereich der Halbleiterfertigung und wurde speziell für den Einsatz in vertikalen Öfen entwickelt, die in verschiedenen Halbleiterverarbeitungsanwendungen wie RTP und Diffusion eingesetzt werden. Dieses Spezialrohr spielt eine entscheidende Rolle bei der Erleichterung der kontrollierten und präzisen Wärmebehandlung von Halbleiterwafern während ihrer Reise durch kritische Herstellungsprozesse.

Dieses Siliziumkarbid-Prozessrohr besteht aus hochreinem Siliziumkarbid und weist eine außergewöhnliche Wärmeleitfähigkeit, Beständigkeit gegenüber extremen Temperaturen und eine hervorragende mechanische Festigkeit auf. Seine einzigartigen Materialeigenschaften machen es zur idealen Wahl für Anwendungen, die hohe Temperaturen und raue chemische Umgebungen erfordern, wie sie bei der Halbleiterverarbeitung häufig vorkommen.

Im Vertikalofen sorgt das Siliziumkarbid-Prozessrohr für eine schützende und kontrollierte Atmosphäre für Halbleiterwafer, während sie Prozesse wie RTP durchlaufen. RTP umfasst schnelle Aufheiz- und Abkühlzyklen, die für die Aktivierung von Dotierstoffen, das Ausheilen und andere thermische Behandlungen, die für die Herstellung von Halbleiterbauelementen von entscheidender Bedeutung sind, unerlässlich sind. Die robuste Beschaffenheit des Siliziumkarbid-Prozessrohrs gewährleistet Langlebigkeit und Zuverlässigkeit in solch anspruchsvollen thermischen und chemischen Umgebungen und trägt zur Gesamteffizienz und Präzision des Halbleiterherstellungsprozesses bei.