Semicorex ist Ihr Partner für Verbesserungen in der Halbleiterverarbeitung. Unsere Siliziumkarbidbeschichtungen sind dicht, hochtemperatur- und chemikalienbeständig und werden häufig im gesamten Zyklus der Halbleiterherstellung eingesetzt, einschließlich der Halbleiterwafer- und Waferverarbeitung sowie der Halbleiterfertigung.
Hochreine SiC-Keramikkomponenten sind für Prozesse im Halbleiter von entscheidender Bedeutung. Unser Angebot reicht von Verbrauchsteilen für Wafer-Verarbeitungsgeräte wie Siliziumkarbid-Waferboote, Cantilever-Paddel, Rohre usw. für Epitaxie oder MOCVD.
Vorteile für Halbleiterprozesse
Die Dünnschichtabscheidungsphasen wie Epitaxie oder MOCVD oder die Wafer-Handhabungsprozesse wie Ätzen oder Ionenimplantation müssen hohen Temperaturen und aggressiver chemischer Reinigung standhalten. Semicorex liefert eine Konstruktion aus hochreinem Siliziumkarbid (SiC), die eine hervorragende Hitzebeständigkeit und dauerhafte chemische Beständigkeit sowie eine gleichmäßige thermische Gleichmäßigkeit für eine gleichmäßige Dicke und Beständigkeit der Epi-Schicht bietet.
Kammerdeckel →
Kammerdeckel, die beim Kristallwachstum und bei der Wafer-Handhabung verwendet werden, müssen hohen Temperaturen und aggressiver chemischer Reinigung standhalten.
Auslegerpaddel →
Cantilever Paddle ist eine entscheidende Komponente, die in Halbleiterherstellungsprozessen verwendet wird, insbesondere in Diffusions- oder LPCVD-Öfen bei Prozessen wie Diffusion und RTP.
Prozessrohr →
Das Prozessrohr ist eine entscheidende Komponente, die speziell für verschiedene Halbleiterverarbeitungsanwendungen wie RTP und Diffusion entwickelt wurde.
Wafer-Boote →
Wafer Boat wird in der Halbleiterverarbeitung eingesetzt und wurde sorgfältig entwickelt, um sicherzustellen, dass die empfindlichen Wafer während der kritischen Produktionsphasen sicher aufbewahrt werden.
Einlassringe →
SiC-beschichteter Gaseinlassring durch MOCVD-Ausrüstung. Das Compound-Wachstum weist eine hohe Hitze- und Korrosionsbeständigkeit auf, was eine große Stabilität in extremen Umgebungen bietet.
Fokusring →
Semicorex liefert einen mit Siliziumkarbid beschichteten Fokusring, der wirklich stabil für RTA, RTP oder aggressive chemische Reinigung ist.
Waffelfutter →
Die ultraflachen Keramik-Vakuum-Wafer-Chucks von Semicorex sind mit hochreinem SiC beschichtet und werden im Wafer-Handhabungsprozess verwendet.
Semicorex bietet auch Keramikprodukte aus Aluminiumoxid (Al2O3), Siliziumnitrid (Si3N4), Aluminiumnitrid (AlN), Zirkonoxid (ZrO2), Verbundkeramik usw. an.
Si3N4 Sleeve von Semicorex ist ein vielseitiges und leistungsstarkes Material, das eine einzigartige Kombination aus geringer Dichte, überlegener Härte, ausgezeichneter Verschleißfestigkeit und außergewöhnlicher thermischer und chemischer Stabilität bietet.**
WeiterlesenAnfrage absendenDie Hauptfunktion des porösen Keramik-Vakuumspannfutters von Semicorex liegt in seiner Fähigkeit, eine gleichmäßige Luft- und Wasserdurchlässigkeit bereitzustellen, eine Eigenschaft, die eine gleichmäßige Spannungsverteilung und eine robuste Haftung von Siliziumwafern gewährleistet. Diese Eigenschaft ist während des Schleifprozesses von entscheidender Bedeutung, da sie ein Verrutschen des Wafers verhindert und so die Integrität des Vorgangs aufrechterhält.**
WeiterlesenAnfrage absendenSemicorex-Aluminiumoxidrohre sind eine zentrale Komponente in einer Vielzahl industrieller Anwendungen und bekannt für ihre Fähigkeit, rauen Umgebungen und hohen Temperaturen standzuhalten.**
WeiterlesenAnfrage absendenPBN Ceramic Disc von Semicorex wird durch einen aufwendigen chemischen Gasphasenabscheidungsprozess (CVD) synthetisiert, bei dem Bortrichlorid (BCl3) und Ammoniak (NH3) bei erhöhten Temperaturen und niedrigen Drücken verwendet werden. Diese Synthesemethode führt zu einem Material von außergewöhnlicher Reinheit und struktureller Integrität, was es für eine Vielzahl von Anwendungen in der Halbleiterindustrie unverzichtbar macht.**
WeiterlesenAnfrage absendenDer ZrO2-Tiegel von Semicorex besteht aus stabilisierter Zirkonoxidkeramik und weist eine Standardzusammensetzung von 94,7 % Zirkoniumdioxid (ZrO2) und 5,2 % Yttriumoxid (Y2O3) in Gewichtsprozent oder alternativ 97 % ZrO2 und 3 % Y2O3 in Molprozent auf. Diese präzise Formulierung verleiht dem ZrO2-Tiegel eine Reihe vorteilhafter Eigenschaften, die speziell auf die Anforderungen industrieller Hochleistungsprozesse zugeschnitten sind.**
WeiterlesenAnfrage absendenDie Al2O3-Schneidklinge von Semicorex wurde sorgfältig entwickelt, um den strengen Anforderungen von Schneidprozessen in einem Spektrum von Branchen gerecht zu werden, einschließlich, aber nicht beschränkt auf Filme und Folien, medizinische Anwendungen und die komplizierte Montage elektronischer Komponenten.**
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