Semicorex SiC Fine Powder ist ein hochwertiges, ultrafeines Pulver, das für seine außergewöhnliche Reinheit und kontrollierte Partikelgrößenverteilung bekannt ist. Semicorex ist bestrebt, Qualitätsprodukte zu wettbewerbsfähigen Preisen anzubieten. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.
Semicorex SiC Fine Powder ist ein hochwertiges, ultrafeines Pulver, das für seine außergewöhnliche Reinheit und kontrollierte Partikelgrößenverteilung bekannt ist. Dieses feine SiC-Pulver besteht überwiegend aus Siliziumkarbidkristallen vom Alpha-Phase-N-Typ und gewährleistet hervorragende Materialeigenschaften und Leistung in verschiedenen Anwendungen.
Feines SiC-Pulver weist einen hohen Reinheitsgrad auf, minimiert Verunreinigungen und sorgt für eine einheitliche Materialzusammensetzung. Das Pulver wurde mit kontrollierter Dotierung von Stickstoff (N) entwickelt und weist eine N-Leitfähigkeit auf, wodurch es für Anwendungen geeignet ist, die Halbleitereigenschaften erfordern. SiC-Feinpulver zeichnet sich durch eine enge Partikelgrößenverteilung aus, die eine gleichmäßige Dispersion und eine verbesserte Materialkompaktheit in verschiedenen Herstellungsprozessen ermöglicht.
Anwendungen:
Läppen von Keramik, Kristall, Quarz, Glas usw
Drahtsägenschneiden von Silizium für Halbleiter, Kristalle, Quarz usw
Material aus Kunstharz-Schleifstein, verglastem Schleifstein und PVA-Schleifstein
Werkstoff aus Keramik und Sinterteilen
Strahlendes Füllmaterial
Beschichtungs- und Verbundbeschichtungsmaterialien
Eigenschaften
Modell | Reinheit | Packungsdichte | D10 | D50 | D90 |
SiC-N-S | >6N | <1,7 g/cm3 | 100 μm | 300 μm | 500 μm |
SiC-N-M | >6N | <1,3 g/cm3 | 500 μm | 1000 μm | 2000μm |
SiC-N-L | >6N | <1,3 g/cm3 | 1000 μm | 1500μm | 2500μm |
Semicorex SiC Fine Powder steht für eine Premium-Materiallösung mit außergewöhnlicher Reinheit, präziser Kontrolle der Eigenschaften und vielseitiger Anwendbarkeit in verschiedenen Branchen. Seine Kombination hochwertiger Eigenschaften macht es unter anderem zur bevorzugten Wahl für anspruchsvolle Anwendungen in der Halbleiterfertigung, Hochleistungskeramik, feuerfesten Materialien, Schleifmitteln und Katalysatorträgersystemen.