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Feines SiC-Pulver

Feines SiC-Pulver

Semicorex SiC Fine Powder ist ein hochwertiges, ultrafeines Pulver, das für seine außergewöhnliche Reinheit und kontrollierte Partikelgrößenverteilung bekannt ist. Semicorex ist bestrebt, Qualitätsprodukte zu wettbewerbsfähigen Preisen anzubieten. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.

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Produktbeschreibung

Semicorex SiC Fine Powder ist ein hochwertiges, ultrafeines Pulver, das für seine außergewöhnliche Reinheit und kontrollierte Partikelgrößenverteilung bekannt ist. Dieses feine SiC-Pulver besteht überwiegend aus Siliziumkarbidkristallen vom Alpha-Phase-N-Typ und gewährleistet hervorragende Materialeigenschaften und Leistung in verschiedenen Anwendungen.

Feines SiC-Pulver weist einen hohen Reinheitsgrad auf, minimiert Verunreinigungen und sorgt für eine einheitliche Materialzusammensetzung. Das Pulver wurde mit kontrollierter Dotierung von Stickstoff (N) entwickelt und weist eine N-Leitfähigkeit auf, wodurch es für Anwendungen geeignet ist, die Halbleitereigenschaften erfordern. SiC-Feinpulver zeichnet sich durch eine enge Partikelgrößenverteilung aus, die eine gleichmäßige Dispersion und eine verbesserte Materialkompaktheit in verschiedenen Herstellungsprozessen ermöglicht.


Anwendungen:

Läppen von Keramik, Kristall, Quarz, Glas usw

Drahtsägenschneiden von Silizium für Halbleiter, Kristalle, Quarz usw

Material aus Kunstharz-Schleifstein, verglastem Schleifstein und PVA-Schleifstein

Werkstoff aus Keramik und Sinterteilen

Strahlendes Füllmaterial

Beschichtungs- und Verbundbeschichtungsmaterialien


Eigenschaften

Modell Reinheit Packungsdichte D10 D50 D90
SiC-N-S >6N <1,7 g/cm3 100 μm 300 μm 500 μm
SiC-N-M >6N <1,3 g/cm3 500 μm 1000 μm 2000μm
SiC-N-L >6N <1,3 g/cm3 1000 μm 1500μm 2500μm


Semicorex SiC Fine Powder steht für eine Premium-Materiallösung mit außergewöhnlicher Reinheit, präziser Kontrolle der Eigenschaften und vielseitiger Anwendbarkeit in verschiedenen Branchen. Seine Kombination hochwertiger Eigenschaften macht es unter anderem zur bevorzugten Wahl für anspruchsvolle Anwendungen in der Halbleiterfertigung, Hochleistungskeramik, feuerfesten Materialien, Schleifmitteln und Katalysatorträgersystemen.





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