Semicorex SiC-Keramik-Vakuumspannfutter sind Präzisions-Vakuumadsorptionsgeräte aus Siliziumkarbidkeramik, mit denen Halbleiterwafer während der Verarbeitung und Inspektion präzise und stabil in bestimmten Positionen positioniert werden können. Der Einsatz von Semicorex SiC-Keramik-Vakuumspannfuttern kann dazu beitragen, die Ausbeute bei der Halbleiterfertigung zu verbessern, die Leistung von Halbleiterbauelementen zu verbessern und die Gesamtherstellungskosten zu senken.
Präzisionsgefertigte Mikrolöcher sind gleichmäßig über die Oberfläche der SiC-Keramik-Vakuumspannfutter verteilt und ermöglichen eine zuverlässige Verbindung mit der externen Vakuumausrüstung. Während des Betriebs wird die Vakuumpumpe aktiviert, um Luft durch die Löcher zu saugen und so eine Unterdruckumgebung zwischen dem Halbleiterwafer und der Vakuumhalterung zu erzeugen. Dadurch kann der Wafer gleichmäßig und fest auf der Vakuumspannfläche gehalten werden.
SemicorexSiC-Keramik-VakuumspannfutterWählen Sie sorgfältig hochreines Siliziumkarbid als Rohmaterial aus. Die strenge Kontrolle der Materialreinheit durch Semicorex verhindert effektiv eine Waferkontamination durch Verunreinigungen während des Betriebs und erfüllt so die wachsenden Anforderungen an Produktionsreinheit und Ausbeute.
Die Oberfläche der SiC-Keramik-Vakuumspannfutter von Semicorex wird spiegelpoliert und ihre Ebenheit wird auf 0,3–0,5 μm kontrolliert. Diese extreme Ebenheitskontrolle kann einen optimalen Kontakteffekt ermöglichen, wodurch das Risiko von Waferkratzern durch raue Kontaktflächen erheblich verringert wird. Jedes Mikroloch und jede Nut in Vakuumspannfuttern ist präzisionsgefertigt und sorgt so für einen stabilen und gleichmäßigen Adsorptionseffekt während des Betriebs.
Semicorex bietet unseren geschätzten Kunden kundenspezifische Dienstleistungen an und bietet verschiedene Größenoptionen für SiC-Keramik-Vakuumspannfutter an, z. B. 6 Zoll, 8 Zoll und 12 Zoll. Wir können Maßtoleranzen, Porengröße, Ebenheit und Rauheit an die Anforderungen unserer Kunden anpassen und so eine perfekte Übereinstimmung mit Ihren Halbleiterverarbeitungs- und Inspektionsgeräten gewährleisten.
SemicorexSiC-KeramikVakuumspannfutter werden durch isostatisches Pressen geformt und anschließend bei hoher Temperatur gesintert. Aufgrund dieser speziellen Prozesstechnologie verfügen Semicorex SiC-Keramik-Vakuumspannfutter über mehrere hervorragende Leistungen, wie z. B. geringes Gewicht, hohe Steifigkeit, starke Verschleißfestigkeit und niedrigen Wärmeausdehnungskoeffizienten. Diese Eigenschaften ermöglichen den Dauerbetrieb der Semicorex SiC-Keramik-Vakuumspannvorrichtungen unter den anspruchsvollen Bedingungen bei der Handhabung und Verarbeitung von Halbleiterwafern.