SiC-Cantilever-Paddel

Das Semicorex SiC (Siliziumkarbid) Cantilever Paddle ist eine entscheidende Komponente, die in Halbleiterherstellungsprozessen verwendet wird, insbesondere in Diffusions- oder LPCVD-Öfen (Low-Pressure Chemical Vapour Deposition) bei Prozessen wie Diffusion und RTP (Rapid Thermal Processing). Es dient der Lagerung und dem Transport von Wafern im Prozessrohr dieser Öfen.

Das Semicorex SiC Cantilever Paddle besteht hauptsächlich aus Siliziumkarbid, einem robusten und thermisch stabilen Material, das für seine Hochtemperaturbeständigkeit und hervorragende mechanische Eigenschaften bekannt ist. SiC wird aufgrund seiner Fähigkeit ausgewählt, den rauen Bedingungen in den Hochtemperatur-Prozessumgebungen von Halbleiteröfen standzuhalten. Das Design des SiC Cantilever Paddle ermöglicht es, dass es in das Prozessrohr des Ofens hineinragt und gleichzeitig an einem Ende außerhalb des Rohrs fest verankert ist. Dieses Design gewährleistet Stabilität und Halt für die zu verarbeitenden Wafer und minimiert gleichzeitig Störungen der thermischen Umgebung im Ofen.

Das SiC Cantilever Paddle soll Halbleiterwafer während verschiedener Hochtemperaturprozesse wie Diffusion und RTP sicher im Prozessrohr transportieren. Seine robuste Konstruktion stellt sicher, dass es den extremen Temperaturen und chemischen Umgebungen, die bei diesen Prozessen auftreten, ohne Beeinträchtigung oder Ausfall standhält. SiC-Cantilever-Paddles sind so konzipiert, dass sie mit einer Vielzahl von Halbleiterwafergrößen und -formen kompatibel sind, die üblicherweise in der Industrie verwendet werden. Sie können häufig an spezifische Ofenkonfigurationen und Prozessanforderungen angepasst werden.