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Halbleiter-Wafer-Chuck

Halbleiter-Wafer-Chuck

Die fortschrittlichen, hochreinen, mit Siliziumkarbid beschichteten Komponenten von Semicorex sind so konstruiert, dass sie den extremen Umgebungen im Wafer-Handhabungsprozess standhalten. Unser Semiconductor Wafer Chuck hat einen guten Preisvorteil und deckt viele der europäischen und amerikanischen Märkte ab. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.

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Produktbeschreibung

Der ultraflache Semicorex-Halbleiter-Wafer-Chuck ist mit hochreinem SiC beschichtet, das im Wafer-Handhabungsprozess verwendet wird. Halbleiter-Wafer-Chuck von MOCVD-Ausrüstung Das Verbundwachstum hat eine hohe Hitze- und Korrosionsbeständigkeit, die eine große Stabilität in extremen Umgebungen aufweist und das Ertragsmanagement für die Halbleiterwafer-Verarbeitung verbessert. Konfigurationen mit geringem Oberflächenkontakt minimieren das Risiko von Rückseitenpartikeln für empfindliche Anwendungen.


Parameter des Halbleiter-Wafer-Chucks

Hauptspezifikationen der CVD-SIC-Beschichtung

SiC-CVD-Eigenschaften

Kristallstruktur

FCC β-Phase

Dichte

g/cm³

3.21

Härte

Vickers-Härte

2500

Körnung

μm

2~10

Chemische Reinheit

%

99.99995

Wärmekapazität

J·kg –1 ·K –1

640

Sublimationstemperatur

2700

Biegefestigkeit

MPa (RT 4-Punkt)

415

Elastizitätsmodul

Gpa (4pt Biegung, 1300â)

430

Wärmeausdehnung (CTE)

10-6K-1

4.5

Wärmeleitfähigkeit

(W/mK)

300


Merkmale des Halbleiter-Wafer-Chucks

- CVD-Siliziumkarbidbeschichtungen zur Verbesserung der Lebensdauer.

- Ultraflache Fähigkeiten

- Hohe Steifigkeit

- Geringe Wärmeausdehnung

- Extreme Verschleißfestigkeit




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