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Halbleiter-Wafer-Boot
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Halbleiter-Wafer-Boot

Semicorex bietet Waferboote, Sockel und kundenspezifische Waferträger sowohl für vertikale/Säulen- als auch horizontale Konfigurationen. Wir sind seit vielen Jahren Hersteller und Lieferant von Siliziumkarbid-Beschichtungsfolien. Unser Halbleiter-Wafer-Boot hat einen guten Preisvorteil und deckt die meisten europäischen und amerikanischen Märkte ab. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.

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Produktbeschreibung

Semicorex Semiconductor Wafer Boat besteht aus gesinterter Siliziumkarbidkeramik, die eine gute Korrosionsbeständigkeit und eine ausgezeichnete Beständigkeit gegen hohe Temperaturen und Thermoschock aufweist. Fortschrittliche Keramik bietet eine hervorragende Wärmebeständigkeit und Plasmabeständigkeit und reduziert gleichzeitig Partikel und Verunreinigungen für Waferträger mit hoher Kapazität.
Bei Semicorex konzentrieren wir uns auf die Bereitstellung hochwertiger und kostengünstiger Halbleiter-Wafer-Boote. Wir legen großen Wert auf die Kundenzufriedenheit und bieten kostengünstige Lösungen. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner zu werden, der qualitativ hochwertige Produkte und außergewöhnlichen Kundenservice liefert.
Kontaktieren Sie uns noch heute, um mehr über unser Halbleiter-Wafer-Boot zu erfahren.


Parameter des Halbleiter-Wafer-Bootes

Technische Eigenschaften

Index

Einheit

Wert

Materialname

Reaktionsgesintertes Siliziumkarbid

Drucklos gesintertes Siliziumkarbid

Rekristallisiertes Siliziumkarbid

Zusammensetzung

RBSiC

SSiC

R-SiC

Schüttdichte

g/cm3

3

3,15 ± 0,03

2,60-2,70

Biegefestigkeit

MPa (kpsi)

338(49)

380(55)

80-90 (20°C) 90–100 (1400 °C)

Druckfestigkeit

MPa (kpsi)

1120(158)

3970(560)

> 600

Härte

Taste

2700

2800

/

Hartnäckigkeit brechen

MPa m1/2

4.5

4

/

Wärmeleitfähigkeit

W/m.k

95

120

23

Wärmeausdehnungskoeffizient

10-6.1/°C

5

4

4.7

Spezifische Wärme

Joule/g 0k

0.8

0.67

/

Maximale Temperatur in der Luft

1200

1500

1600

Elastizitätsmodul

Gpa

360

410

240


Der Unterschied zwischen SSiC und RBSiC:

1. Der Sinterprozess ist anders. RBSiC soll bei niedriger Temperatur freies Si in Siliziumkarbid infiltrieren, SSiC entsteht durch natürliche Schrumpfung bei 2100 Grad.

2. SSiC hat eine glattere Oberfläche, eine höhere Dichte und eine höhere Festigkeit. Für einige Dichtungen mit strengeren Oberflächenanforderungen ist SSiC besser.

3. Unterschiedliche Nutzungsdauer bei unterschiedlichem pH-Wert und unterschiedlicher Temperatur, SSiC ist länger als RBSiC


Merkmale des Halbleiter-Wafer-Bootes

Überlegene Hitzebeständigkeit und thermische Gleichmäßigkeit
Feine SiC-Kristallbeschichtung für eine glatte Oberfläche
Hohe Beständigkeit gegen chemische Reinigung
Das Material ist so konzipiert, dass es nicht zu Rissen und Delaminationen kommt.



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