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Halbleiter-Wafer-Boot
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Halbleiter-Wafer-Boot

Semicorex bietet Waferboote, Sockel und kundenspezifische Waferträger für vertikale/Säulen- und horizontale Konfigurationen an. Wir sind seit vielen Jahren Hersteller und Lieferant von Beschichtungsfilmen aus Siliziumkarbid. Unser Semiconductor Wafer Boat hat einen guten Preisvorteil und deckt die meisten europäischen und amerikanischen Märkte ab. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.

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Produktbeschreibung

Semicorex Semiconductor Wafer Boat besteht aus gesinterter Siliziumkarbidkeramik, die eine gute Korrosionsbeständigkeit und eine hervorragende Beständigkeit gegen hohe Temperaturen und Thermoschocks aufweist. Fortschrittliche Keramiken bieten eine hervorragende Wärmebeständigkeit und Plasmabeständigkeit und mindern gleichzeitig Partikel und Verunreinigungen für Waferträger mit hoher Kapazität.
Bei Semicorex konzentrieren wir uns auf die Bereitstellung hochwertiger, kostengünstiger Halbleiter-Waferboote, wir legen Wert auf Kundenzufriedenheit und bieten kostengünstige Lösungen. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner zu werden, der qualitativ hochwertige Produkte und einen außergewöhnlichen Kundenservice liefert.
Kontaktieren Sie uns noch heute, um mehr über unser Semiconductor Wafer Boat zu erfahren.


Parameter des Halbleiterwaferboots

Technische Eigenschaften

Index

Einheit

Wert

Material Name

Reaktionsgesintertes Siliziumkarbid

Drucklos gesintertes Siliziumkarbid

Rekristallisiertes Siliziumkarbid

Komposition

RBSiC

SSiC

R-SiC

Schüttdichte

g/cm3

3

3,15 ± 0,03

2,60-2,70

Biegefestigkeit

MPa (kpsi)

338(49)

380(55)

80-90 (20°C)90-100(1400°C)

Druckfestigkeit

MPa (kpsi)

1120(158)

3970(560)

> 600

Härte

Knoop

2700

2800

/

Hartnäckigkeit brechen

MPa·m1/2

4.5

4

/

Wärmeleitfähigkeit

W/m.k

95

120

23

Der Wärmeausdehnungskoeffizient

10-6.1/°C

5

4

4.7

Spezifische Wärme

Joule/g 0k

0.8

0.67

/

Maximale Temperatur in der Luft

1200

1500

1600

Elastizitätsmodul

Gpa

360

410

240


Der Unterschied zwischen SSiC und RBSiC:

1. Der Sinterprozess ist anders. RBSiC soll freies Si bei niedriger Temperatur in Siliziumkarbid infiltrieren, SSiC wird durch natürliches Schrumpfen bei 2100 Grad gebildet.

2. SSiC hat eine glattere Oberfläche, eine höhere Dichte und eine höhere Festigkeit. Für einige Dichtungen mit strengeren Oberflächenanforderungen ist SSiC besser.

3. Unterschiedliche Nutzungszeiten bei unterschiedlichen pH-Werten und Temperaturen, SSiC ist länger als RBSiC


Merkmale des Halbleiterwaferboots

Hervorragende Hitzebeständigkeit und thermische Gleichmäßigkeit
Feine SiC-Kristallbeschichtung für eine glatte Oberfläche
Hohe Beständigkeit gegen chemische Reinigung
Das Material ist so konzipiert, dass keine Risse und Delaminationen auftreten.



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