Ofenrohre für LPCVD

Der LPCVD-Prozess ist ein Dünnschichtabscheidungsprozess, der unter Vakuumbedingungen mit niedrigem Druck (typischerweise im Bereich von 0,1 bis 1 Torr) durchgeführt wird. Diese Niederdruck-Vakuum-Betriebsbedingungen können dazu beitragen, die gleichmäßige Diffusion von Vorläufergasen über die Waferoberfläche zu fördern, was sie ideal für die präzise Abscheidung von Materialien wie Si₃N₄, Poly-Si, SiO₂, PSG und bestimmten Metallfilmen wie Wolfram macht.

Ofenrohresind die wesentlichen Komponenten für LPCVD, die als stabile Erzeugungskammern für die Wafer-LPCVD-Verarbeitung dienen und zu einer hervorragenden Filmgleichmäßigkeit, einer außergewöhnlichen Stufenabdeckung und einer hohen Filmqualität von Halbleiterwafern beitragen.

Die Vorteile von Semicorex-Ofenrohren für LPCVD

1. Zuverlässige Dichtungsleistung

Semicorex-Ofenrohre für LPCVD werden mithilfe der 3D-Drucktechnologie hergestellt und zeichnen sich durch eine nahtlose, integrale Struktur aus. Diese schwächelfreie Integralstruktur vermeidet die mit herkömmlichen Schweiß- oder Montageprozessen verbundenen Nähte und Leckagerisiken und sorgt so für eine bessere Prozessabdichtung.  Semicorex-Ofenrohre für LPCVD eignen sich besonders für Niederdruck- und Hochtemperatur-LPCVD-Prozesse, wodurch Prozessgasleckagen und das Eindringen von Außenluft erheblich vermieden werden können.

2. Hervorragende thermische Eigenschaften

Die aus hochwertigen Halbleiterrohstoffen hergestellten Semicorex-Ofenrohre für die LPCVD zeichnen sich durch eine hohe Wärmeleitfähigkeit und eine hervorragende Temperaturwechselbeständigkeit aus. Aufgrund dieser hervorragenden thermischen Eigenschaften arbeiten Semicorex-Ofenrohre für die LPCVD stabil bei Temperaturen von 600 bis 1100 °C und sorgen für eine gleichmäßige Temperaturverteilung für eine qualitativ hochwertige thermische Waferverarbeitung.

3. Strenge Sauberkeitskontrolle

Semicorex kontrolliert die Sauberkeit von Ofenrohren bereits bei der Materialauswahl. Die Verwendung hochreiner Rohstoffe verleiht Semicorex-Ofenrohren für LPCVD einen unübertroffen niedrigen Verunreinigungsgehalt. Der Verunreinigungsgrad des Matrixmaterials wird auf unter 100 PPM kontrolliert und das CVD-SiC-Beschichtungsmaterial wird unter 1 PPM gehalten. Darüber hinaus wird jedes Ofenrohr vor der Auslieferung einer strengen Sauberkeitsprüfung unterzogen, um eine Kontamination durch Verunreinigungen während des LPCVD-Prozesses zu verhindern.

4. Gleichmäßiger und dichter Beschichtungsschutz

Durch chemische Gasphasenabscheidung werden Semicorex-Ofenrohre für LPCVD fest mit einer dichten und gleichmäßigen SiC-Beschichtung überzogen. DieseCVD-SiC-Beschichtungenweisen eine starke Haftung auf, die das Risiko eines Abblätterns der Beschichtung und einer Verschlechterung der Komponenten wirksam verhindert, selbst wenn sie den rauen Hochtemperatur- und Korrosionsbedingungen ausgesetzt sind.