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CVD SiC-beschichtete Ofenrohre

CVD SiC-beschichtete Ofenrohre

Semicorex CVD SiC-beschichtete Ofenrohre sind hochwertige Rohrkomponenten, die speziell für die Hochtemperatur-Halbleiterverarbeitung wie Oxidation, Diffusion und Glühen von Halbleiterwafern hergestellt werden. Durch den Einsatz fortschrittlicher Verarbeitungstechnologien und ausgereifter Fertigungserfahrung ist Semicorex bestrebt, unseren geschätzten Kunden präzisionsgefertigte CVD-SiC-beschichtete Ofenrohre in marktführender Qualität zu liefern.

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Produktbeschreibung

Semicorex CVD SiC-beschichtetOfenrohresind Prozessrohre mit großem Durchmesser, die eine stabile Reaktionskammer für die Hochtemperaturbehandlung von Halbleiterwafern bieten. Sie sind für den Betrieb in Atmosphären ausgelegt, die Sauerstoff (Reaktionsgas), Stickstoff (Schutzgas) und geringe Mengen Chlorwasserstoff enthalten, mit einer stabilen Betriebstemperatur von etwa 1250 Grad Celsius.


CVD SiC-coated furnace tubes

Die Vorteile von Semicorex CVD SiC-beschichteten Ofenrohren


1. Fortschrittliche Formtechnologie und flexible kundenspezifische Fertigung

Geformt durch 3D-Drucktechnologie, SemicorexCVD-SiC-beschichtete Ofenrohre zeichnen sich durch eine nahtlose, integrale Keramikstruktur ohne Schwachstellen aus. Diese Formtechnologie garantiert eine außergewöhnliche gasdichte Abdichtung, die äußere Verunreinigungen wirksam verhindert und die erforderliche Temperatur, den Druck und die atmosphärischen Umgebungen für die Halbleiterwaferverarbeitung aufrechterhält.

Darüber hinaus unterstützt die 3D-Drucktechnologie auch die Herstellung komplexer Formen und die präzise Maßkontrolle. Die Sonderanfertigung ist für Durchmesser, Länge, Wandstärke und Toleranzen entsprechend verschiedenen Anforderungen verfügbar, um volle Kompatibilität mit den vertikalen oder horizontalen Öfen der Kunden zu gewährleisten.


2. Sorgfältige Materialauswahl und Sauberkeitskontrolle

Semicorex CVD SiC-beschichtete Ofenrohre werden aus sorgfältig ausgewähltem hochreinem Material in Halbleiterqualität hergestellt. Der Verunreinigungsgehalt ihrer Matrix wird auf unter 300 PPM kontrolliert und der Verunreinigungsgehalt der CVD-SiC-Beschichtung ist auf weniger als 5 PPM begrenzt. Diese strenge Reinheitskontrolle reduziert die Waferkontamination, die durch die Ausfällung von Metallverunreinigungen unter Hochtemperatur-Betriebsbedingungen verursacht wird, erheblich, was die Ausbeute und Leistung der endgültigen Halbleiterbauelemente erheblich verbessert. Darüber hinaus verbessert die Verwendung einer CVD-SiC-Beschichtung die Hochtemperaturbeständigkeit, chemische Korrosionsbeständigkeit und thermische Stabilität von Semicorex CVD SiC-beschichteten Ofenrohren und verlängert dadurch deren Lebensdauer unter rauen Betriebsbedingungen erheblich.


Aufgrund ihrer zahlreichen Vorteile sind die mit SiC beschichteten CVD-Ofenrohre von Semicorex in der Lage, einen stabilen, geeigneten und hochreinen Reaktionsraum für die Halbleiterwaferverarbeitung bereitzustellen. Die gleichmäßige Temperaturverteilung und die stabile Gasatmosphäre im Inneren der Öfen, die durch Semicorex CVD SiC-beschichtete Ofenrohre ermöglicht werden, tragen dazu bei, eine genauere Dotierungsdiffusion, thermische Oxidation, Glühung und Dünnschichtabscheidung zu erreichen.

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