RSiC-Platte

Die Semicorex RSiC-Platte ist eine leistungsstarke flache Keramikplatte aus rekristallisiertem Siliziumkarbid, die für anspruchsvolle thermische, mechanische und chemische Umgebungen entwickelt wurde. RSiC (rekristallisiertes Siliziumkarbid) wird durch einen Hochtemperatur-Rekristallisationsprozess hergestellt und weist außergewöhnliche Reinheit, ausgezeichnete thermische Stabilität und hervorragende Korrosions- und Verschleißbeständigkeit auf. Diese Eigenschaften machen RSiC-Platten zu einer idealen Lösung für Anwendungen, die eine zuverlässige Leistung unter extremen Bedingungen erfordern.

Rekristallisiertes Siliziumkarbid zeichnet sich durch seine einzigartige Mikrostruktur aus ineinandergreifenden SiC-Körnern ohne den Einsatz von Sinterzusätzen aus. Diese additivfreie Struktur verleiht der RSiC-Platte eine hervorragende Beibehaltung der Hochtemperaturfestigkeit und eine hervorragende Temperaturwechselbeständigkeit. Im Gegensatz zu herkömmlichen KeramikmaterialienRSiCbehält seine mechanische Integrität und Dimensionsstabilität bei Temperaturen über 1600 °C bei und eignet sich daher besonders für Hochtemperaturöfen, thermische Verarbeitungsanlagen und fortschrittliche Industriesysteme.

1. Außergewöhnliche Festigkeit bei Temperatur

Da keine Glasphase oder kein metallischer Siliziumbinder vorhanden ist, kommt es bei RSiC nicht zu „Kriechen“ oder „Absacken“. Selbst bei Temperaturen von bis zu 1.600 °C bis 1.650 °C in oxidierenden Atmosphären (und höher in inerten Umgebungen) behalten unsere Platten ihre ursprüngliche Form und Tragfähigkeit. Dies macht sie zur idealen Wahl für die Chargenverarbeitung mit hoher Belastung in Hochtemperaturöfen.

2. Unübertroffene Temperaturwechselbeständigkeit

Bei den meisten Keramikplatten sind thermische Zyklen die Hauptursache für Ausfälle. RSiC verfügt über eine einzigartige poröse Struktur und eine hohe Wärmeleitfähigkeit (>30 W/m·K), wodurch es thermische Spannungen weitaus effizienter absorbieren und ableiten kann als dichte Keramiken. Unsere Platten halten schnellen Aufheiz- und Abkühlzyklen stand, bei denen Aluminiumoxid oder Quarz sofort reißen würden.

3. Hohe Reinheit für sensible Prozesse

Mit einem SiC-Gehalt von typischerweise über 99 % sind unsere RSiC-Platten eine ausgezeichnete Wahl für Anwendungen, bei denen metallische Verunreinigungen minimiert werden müssen. Sie werden häufig bei der Herstellung hochreiner elektronischer Keramik, der Pulvermetallurgie und spezieller Halbleiterkomponenten eingesetzt.

Strategische Anwendungen

Unsere RSiC-Platten sind für „geschäftskritische“ Rollen in verschiedenen Branchen konzipiert:

Brennhilfsmittel für technische Keramik: Wird als Auflageplatte zum Brennen von MLCCs, Piezoelektrika und Hochspannungsisolatoren verwendet, bei denen keine Verformung erforderlich ist.

Halbleiterverarbeitung: Fungiert als hochreiner Hitzeschild oder Trägerplatte in Diffusions- und Glühöfen.

Solarenergie: Wird zum Sintern von Siliziumkomponenten in Solarqualität und zur hocheffizienten Zellverarbeitung verwendet.

Batteriematerialien: Ideal für die Hochtemperaturkalzinierung von Kathodenmaterialien, bei denen die chemische Reinheit von größter Bedeutung ist.