Produkte

View as

Fokusring für die Plasmaverarbeitung

Der Fokusring für die Plasmabearbeitung von Semicorex wurde speziell für die hohen Anforderungen der Plasmaätzbearbeitung in der Halbleiterindustrie entwickelt. Unsere fortschrittlichen, hochreinen, mit Siliziumkarbid beschichteten Komponenten sind so konstruiert, dass sie extremen Umgebungsbedingungen standhalten und eignen sich für den Einsatz in verschiedenen Anwendungen, einschließlich Siliziumkarbidschichten und Epitaxie-Halbleitern.

Weiterlesen Anfrage absenden

Waferhalter für den ICP-Ätzprozess

Der Waferhalter von Semicorex für den ICP-Ätzprozess ist die perfekte Wahl für anspruchsvolle Waferhandhabung und Dünnschichtabscheidungsprozesse. Unser Produkt zeichnet sich durch hervorragende Hitze- und Korrosionsbeständigkeit, gleichmäßige thermische Gleichmäßigkeit und optimale laminare Gasströmungsmuster für konsistente und zuverlässige Ergebnisse aus.

Weiterlesen Anfrage absenden

ICP Siliziumkohlenstoffbeschichteter Graphit

Der mit ICP-Siliziumkohlenstoff beschichtete Graphit von Semicorex ist die ideale Wahl für anspruchsvolle Wafer-Handhabung und Dünnschichtabscheidungsprozesse. Unser Produkt zeichnet sich durch hervorragende Hitze- und Korrosionsbeständigkeit, gleichmäßige thermische Gleichmäßigkeit und optimale laminare Gasströmungsmuster aus.

Weiterlesen Anfrage absenden

ICP-Plasmaätzsystem für den PSS-Prozess

Wählen Sie das ICP-Plasmaätzsystem von Semicorex für den PSS-Prozess für hochwertige Epitaxie- und MOCVD-Prozesse. Unser Produkt wurde speziell für diese Prozesse entwickelt und bietet eine hervorragende Hitze- und Korrosionsbeständigkeit. Mit einer sauberen und glatten Oberfläche eignet sich unser Träger perfekt für die Handhabung makelloser Waffeln.

Weiterlesen Anfrage absenden

ICP-Plasmaätzplatte

Die ICP-Plasmaätzplatte von Semicorex bietet eine hervorragende Hitze- und Korrosionsbeständigkeit für die Waferhandhabung und Dünnschichtabscheidungsprozesse. Unser Produkt ist so konstruiert, dass es hohen Temperaturen und aggressiver chemischer Reinigung standhält und so Haltbarkeit und Langlebigkeit gewährleistet. Mit einer sauberen und glatten Oberfläche eignet sich unser Träger perfekt für die Handhabung makelloser Waffeln.

Weiterlesen Anfrage absenden

SiC-Platte für den ICP-Ätzprozess

Die SiC-Platte von Semicorex für den ICP-Ätzprozess ist die perfekte Lösung für hohe Temperaturen und raue chemische Verarbeitungsanforderungen bei der Dünnschichtabscheidung und Waferhandhabung. Unser Produkt zeichnet sich durch eine hervorragende Hitzebeständigkeit und gleichmäßige thermische Gleichmäßigkeit aus und gewährleistet eine gleichmäßige Dicke und Beständigkeit der Epi-Schicht. Mit einer sauberen und glatten Oberfläche sorgt unsere hochreine SiC-Kristallbeschichtung für eine optimale Handhabung makelloser Wafer.

Weiterlesen Anfrage absenden

<1 >

Möchten Sie fortschrittliche und langlebige silicon-carbide-etching kaufen? Semicorex ist definitiv Ihre gute Wahl. Wir sind als einer der wettbewerbsfähigsten silicon-carbide-etching Hersteller und Lieferanten in China bekannt. Wir bieten auch Sammelverpackungen an. Möglicherweise benötigen Sie einige kundenspezifische Dienstleistungen, um die tatsächlichen Bedürfnisse Ihrer Region zu erfüllen. Sie können uns über die Kontaktinformationen auf der Webseite eine Nachricht hinterlassen. Wir heißen neue und alte Kunden herzlich willkommen, unsere Fabrik zur Beratung und Verhandlung zu besuchen.