Der Fokusring für die Plasmabearbeitung von Semicorex wurde speziell für die hohen Anforderungen der Plasmaätzbearbeitung in der Halbleiterindustrie entwickelt. Unsere fortschrittlichen, hochreinen, mit Siliziumkarbid beschichteten Komponenten sind so konstruiert, dass sie extremen Umgebungsbedingungen standhalten und eignen sich für den Einsatz in verschiedenen Anwendungen, einschließlich Siliziumkarbidschichten und Epitaxie-Halbleitern.
WeiterlesenAnfrage absendenDer Waferhalter von Semicorex für den ICP-Ätzprozess ist die perfekte Wahl für anspruchsvolle Waferhandhabung und Dünnschichtabscheidungsprozesse. Unser Produkt zeichnet sich durch hervorragende Hitze- und Korrosionsbeständigkeit, gleichmäßige thermische Gleichmäßigkeit und optimale laminare Gasströmungsmuster für konsistente und zuverlässige Ergebnisse aus.
WeiterlesenAnfrage absendenDer mit ICP-Siliziumkohlenstoff beschichtete Graphit von Semicorex ist die ideale Wahl für anspruchsvolle Wafer-Handhabung und Dünnschichtabscheidungsprozesse. Unser Produkt zeichnet sich durch hervorragende Hitze- und Korrosionsbeständigkeit, gleichmäßige thermische Gleichmäßigkeit und optimale laminare Gasströmungsmuster aus.
WeiterlesenAnfrage absendenWählen Sie das ICP-Plasmaätzsystem von Semicorex für den PSS-Prozess für hochwertige Epitaxie- und MOCVD-Prozesse. Unser Produkt wurde speziell für diese Prozesse entwickelt und bietet eine hervorragende Hitze- und Korrosionsbeständigkeit. Mit einer sauberen und glatten Oberfläche eignet sich unser Träger perfekt für die Handhabung makelloser Waffeln.
WeiterlesenAnfrage absendenDie ICP-Plasmaätzplatte von Semicorex bietet eine hervorragende Hitze- und Korrosionsbeständigkeit für die Waferhandhabung und Dünnschichtabscheidungsprozesse. Unser Produkt ist so konstruiert, dass es hohen Temperaturen und aggressiver chemischer Reinigung standhält und so Haltbarkeit und Langlebigkeit gewährleistet. Mit einer sauberen und glatten Oberfläche eignet sich unser Träger perfekt für die Handhabung makelloser Waffeln.
WeiterlesenAnfrage absendenDie SiC-Platte von Semicorex für den ICP-Ätzprozess ist die perfekte Lösung für hohe Temperaturen und raue chemische Verarbeitungsanforderungen bei der Dünnschichtabscheidung und Waferhandhabung. Unser Produkt zeichnet sich durch eine hervorragende Hitzebeständigkeit und gleichmäßige thermische Gleichmäßigkeit aus und gewährleistet eine gleichmäßige Dicke und Beständigkeit der Epi-Schicht. Mit einer sauberen und glatten Oberfläche sorgt unsere hochreine SiC-Kristallbeschichtung für eine optimale Handhabung makelloser Wafer.
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