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Fokusring für Plasmaverarbeitung

Fokusring für Plasmaverarbeitung

Der Fokusring für die Plasmabearbeitung von Semicorex wurde speziell entwickelt, um die hohen Anforderungen der Plasmaätzbearbeitung in der Halbleiterindustrie zu erfüllen. Unsere fortschrittlichen, hochreinen, mit Siliziumkarbid beschichteten Komponenten sind so konstruiert, dass sie extremen Umgebungen standhalten und für den Einsatz in verschiedenen Anwendungen geeignet sind, einschließlich Siliziumkarbidschichten und Epitaxie-Halbleitern.

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Produktbeschreibung

Unser Fokusring für die Plasmabearbeitung ist äußerst stabil für RTA, RTP oder aggressive chemische Reinigung, was ihn zur idealen Wahl für den Einsatz in Plasmaätzkammern (oder Trockenätzkammern) macht. Unsere Fokusringe oder Kantenringe wurden entwickelt, um die Gleichmäßigkeit des Ätzens um die Waferkante oder den Umfang zu verbessern, und sind so konstruiert, dass Kontamination und außerplanmäßige Wartung minimiert werden.

Unsere SiC-Beschichtung ist eine dichte, verschleißfeste Siliziumkarbidbeschichtung mit hohen Korrosions- und Hitzebeständigkeitseigenschaften sowie ausgezeichneter Wärmeleitfähigkeit. SiC tragen wir im CVD-Verfahren (Chemical Vapor Deposition) in dünnen Schichten auf den Graphit auf. Dies stellt sicher, dass unsere SiC-Fokusringe eine hervorragende Qualität und Haltbarkeit aufweisen, was sie zu einer zuverlässigen Wahl für Ihre Plasmaätzverarbeitungsanforderungen macht.

Kontaktieren Sie uns noch heute, um mehr über unseren Fokusring für die Plasmaverarbeitung zu erfahren.


Parameter des Plasmaverarbeitungs-Fokusrings

Hauptspezifikationen der CVD-SIC-Beschichtung

SiC-CVD-Eigenschaften

Kristallstruktur

FCC β-Phase

Dichte

g/cm³

3.21

Härte

Vickers-Härte

2500

Körnung

μm

2~10

Chemische Reinheit

%

99.99995

Wärmekapazität

J·kg –1 ·K –1

640

Sublimationstemperatur

2700

Biegefestigkeit

MPa (RT 4-Punkt)

415

Elastizitätsmodul

Gpa (4pt Biegung, 1300â)

430

Wärmeausdehnung (CTE)

10-6K-1

4.5

Wärmeleitfähigkeit

(W/mK)

300


Merkmale des Plasmaverarbeitungs-Fokusrings

- CVD-Siliziumkarbidbeschichtungen zur Verbesserung der Lebensdauer.

- Wärmeisolierung aus hochleistungsfähigem, gereinigtem Hartkohlenstoff.

- Kohlenstoff/Kohlenstoff-Verbundheizung und -platte. - Sowohl das Graphitsubstrat als auch die Siliziumkarbidschicht haben eine hohe Wärmeleitfähigkeit und ausgezeichnete Wärmeverteilungseigenschaften.

- Hochreine Graphit- und SiC-Beschichtung für Pinhole-Resistenz und längere Lebensdauer



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