Fokusring für Plasmaverarbeitung

Unser Fokusring für die Plasmabearbeitung ist äußerst stabil für RTA, RTP oder aggressive chemische Reinigung, was ihn zur idealen Wahl für den Einsatz in Plasmaätzkammern (oder Trockenätzkammern) macht. Unsere Fokusringe oder Kantenringe wurden entwickelt, um die Gleichmäßigkeit des Ätzens um die Waferkante oder den Umfang zu verbessern, und sind so konstruiert, dass Kontamination und außerplanmäßige Wartung minimiert werden.

Unsere SiC-Beschichtung ist eine dichte, verschleißfeste Siliziumkarbidbeschichtung mit hohen Korrosions- und Hitzebeständigkeitseigenschaften sowie ausgezeichneter Wärmeleitfähigkeit. SiC tragen wir im CVD-Verfahren (Chemical Vapor Deposition) in dünnen Schichten auf den Graphit auf. Dies stellt sicher, dass unsere SiC-Fokusringe eine hervorragende Qualität und Haltbarkeit aufweisen, was sie zu einer zuverlässigen Wahl für Ihre Plasmaätzverarbeitungsanforderungen macht.

Kontaktieren Sie uns noch heute, um mehr über unseren Fokusring für die Plasmaverarbeitung zu erfahren.

Parameter des Plasmaverarbeitungs-Fokusrings

Merkmale des Plasmaverarbeitungs-Fokusrings

- CVD-Siliziumkarbidbeschichtungen zur Verbesserung der Lebensdauer.

- Wärmeisolierung aus hochleistungsfähigem, gereinigtem Hartkohlenstoff.

- Kohlenstoff/Kohlenstoff-Verbundheizung und -platte. - Sowohl das Graphitsubstrat als auch die Siliziumkarbidschicht haben eine hohe Wärmeleitfähigkeit und ausgezeichnete Wärmeverteilungseigenschaften.

- Hochreine Graphit- und SiC-Beschichtung für Pinhole-Resistenz und längere Lebensdauer