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ICP-Plasmaätzsystem für den PSS-Prozess

ICP-Plasmaätzsystem für den PSS-Prozess

Wählen Sie das ICP-Plasmaätzsystem von Semicorex für den PSS-Prozess für hochwertige Epitaxie- und MOCVD-Prozesse. Unser Produkt wurde speziell für diese Prozesse entwickelt und bietet eine hervorragende Hitze- und Korrosionsbeständigkeit. Mit einer sauberen und glatten Oberfläche eignet sich unser Träger perfekt für die Handhabung makelloser Waffeln.

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ICP-Plasmaätzplatte

ICP-Plasmaätzplatte

Die ICP-Plasmaätzplatte von Semicorex bietet eine hervorragende Hitze- und Korrosionsbeständigkeit für die Waferhandhabung und Dünnschichtabscheidungsprozesse. Unser Produkt ist so konstruiert, dass es hohen Temperaturen und aggressiver chemischer Reinigung standhält und so Haltbarkeit und Langlebigkeit gewährleistet. Mit einer sauberen und glatten Oberfläche eignet sich unser Träger perfekt für die Handhabung makelloser Waffeln.

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SiC-Platte für den ICP-Ätzprozess

SiC-Platte für den ICP-Ätzprozess

Die SiC-Platte von Semicorex für den ICP-Ätzprozess ist die perfekte Lösung für hohe Temperaturen und raue chemische Verarbeitungsanforderungen bei der Dünnschichtabscheidung und Waferhandhabung. Unser Produkt zeichnet sich durch eine hervorragende Hitzebeständigkeit und gleichmäßige thermische Gleichmäßigkeit aus und gewährleistet eine gleichmäßige Dicke und Beständigkeit der Epi-Schicht. Mit einer sauberen und glatten Oberfläche sorgt unsere hochreine SiC-Kristallbeschichtung für eine optimale Handhabung makelloser Wafer.

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SiC-beschichteter ICP-Ätzträger

SiC-beschichteter ICP-Ätzträger

Semicorex SiC-beschichteter ICP-Ätzträger, der speziell für Epitaxiegeräte mit hoher Hitze- und Korrosionsbeständigkeit in China entwickelt wurde. Unsere Produkte haben einen guten Preisvorteil und decken viele europäische und amerikanische Märkte ab. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.

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PSS-Ätzträgerplatte für Halbleiter

PSS-Ätzträgerplatte für Halbleiter

Die Semicorex PSS Ätzträgerplatte für Halbleiter wurde speziell für Hochtemperatur- und raue chemische Reinigungsumgebungen entwickelt, die für epitaktisches Wachstum und Wafer-Handhabungsprozesse erforderlich sind. Unsere hochreine PSS-Ätzträgerplatte für Halbleiter ist für die Unterstützung von Wafern während Dünnschichtabscheidungsphasen wie MOCVD und Epitaxie-Suszeptoren, Pancake- oder Satellitenplattformen konzipiert. Unser SiC-beschichteter Träger weist eine hohe Hitze- und Korrosionsbeständigkeit, hervorragende Wärmeverteilungseigenschaften und eine hohe Wärmeleitfähigkeit auf. Wir bieten unseren Kunden kostengünstige Lösungen und unsere Produkte decken viele europäische und amerikanische Märkte ab. Semicorex freut sich darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu sein.

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SiC-beschichteter PSS-Ätzträger

SiC-beschichteter PSS-Ätzträger

Waferträger, die beim epixialen Wachstum und bei der Waferhandhabung verwendet werden, müssen hohen Temperaturen und aggressiver chemischer Reinigung standhalten. Semicorex SiC-beschichteter PSS-Ätzträger, der speziell für diese anspruchsvollen Epitaxie-Geräteanwendungen entwickelt wurde. Unsere Produkte haben einen guten Preisvorteil und decken viele europäische und amerikanische Märkte ab. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.

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Möchten Sie fortschrittliche und langlebige etching-tray kaufen? Semicorex ist definitiv Ihre gute Wahl. Wir sind als einer der wettbewerbsfähigsten etching-tray Hersteller und Lieferanten in China bekannt. Wir bieten auch Sammelverpackungen an. Möglicherweise benötigen Sie einige kundenspezifische Dienstleistungen, um die tatsächlichen Bedürfnisse Ihrer Region zu erfüllen. Sie können uns über die Kontaktinformationen auf der Webseite eine Nachricht hinterlassen. Wir heißen neue und alte Kunden herzlich willkommen, unsere Fabrik zur Beratung und Verhandlung zu besuchen.
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