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Was ist ein Dummy-Wafer?

Im Halbleiterfertigungsprozess bilden Wafer die Grundlage der Chipproduktion. Unter diesen spielt ein spezieller Wafertyp, der sogenannte Dummy Wafer, eine entscheidende Rolle bei der Gewährleistung der Anlagenstabilität und der Kontrolle der Produktionskosten.

Was ist die Halbleiter-Ionenimplantationstechnologie?

In der Halbleiterfertigung werden bei der Ionenimplantation hochenergetische Beschleuniger eingesetzt, um bestimmte Verunreinigungsatome wie Arsen oder Bor in ein Siliziumsubstrat zu injizieren.

Glühen

Das Tempern nach der Ionenimplantation ist ein wichtiger Schritt bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen, der sich auf die Leistung und Zuverlässigkeit des Bauelements auswirkt.

Hierarchische poröse Kohlenstoffmaterialien: Synthese und Einführung

AlN-Kristallwachstum durch PVT-Methode

Die dritte Generation von Halbleitermaterialien mit großer Bandlücke, darunter Galliumnitrid (GaN), Siliziumkarbid (SiC) und Aluminiumnitrid (AlN), weist hervorragende elektrische, thermische und akusto-optische Eigenschaften auf. Diese Materialien beseitigen die Einschränkungen der ersten und zweit......

Selektive Ätztechnologie für SiGe und Si

Ein entscheidender Schritt bei der Herstellung von GAAFETs vom n-Typ ist das hochselektive Ätzen von SiGe:Si-Stapeln vor der Abscheidung innerer Abstandshalter, wodurch Silizium-Nanoschichten erzeugt und Kanäle freigesetzt werden.