Unter chemischer Gasphasenabscheidung (CVD) versteht man eine Prozesstechnologie, bei der mehrere gasförmige Reaktanten bei unterschiedlichen Partialdrücken unter bestimmten Temperatur- und Druckbedingungen eine chemische Reaktion eingehen. Der resultierende Feststoff lagert sich auf der Oberfläche ......
WeiterlesenIn den Bereichen der modernen Elektronik, Optoelektronik, Mikroelektronik und Informationstechnologie sind Halbleitersubstrate und Epitaxietechnologien unverzichtbar. Sie bieten eine solide Grundlage für die Herstellung leistungsstarker und äußerst zuverlässiger Halbleiterbauelemente. Während die Te......
WeiterlesenKürzlich gab unser Unternehmen bekannt, dass es erfolgreich einen 6-Zoll-Galliumoxid-Einkristall mithilfe der Gussmethode entwickelt hat und damit das erste inländische Industrieunternehmen ist, das die Technologie zur Herstellung von 6-Zoll-Galliumoxid-Einkristallsubstraten beherrscht.
WeiterlesenDer Prozess des monokristallinen Siliziumwachstums findet überwiegend in einem thermischen Feld statt, wobei die Qualität der thermischen Umgebung die Kristallqualität und Wachstumseffizienz erheblich beeinflusst. Die Gestaltung des Wärmefeldes spielt eine entscheidende Rolle bei der Gestaltung von ......
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