Hochreiner Quarz besitzt bemerkenswerte physikalische und chemische Eigenschaften. Seine inhärente Kristallstruktur, Form und Gittervariationen tragen zu außergewöhnlichen Eigenschaften wie Hochtemperaturbeständigkeit, Korrosionsbeständigkeit, Abriebfestigkeit, niedrigem Wärmeausdehnungskoeffiziente......
WeiterlesenElektrostatische Chucks (ESCs) sind in der Halbleiterfertigung und der Produktion von Flachbildschirmen unverzichtbar geworden und bieten eine beschädigungsfreie, gut kontrollierbare Methode zum Halten und Positionieren empfindlicher Wafer und Substrate während kritischer Verarbeitungsschritte. Dies......
WeiterlesenDicke, hochreine Siliziumkarbidschichten (SiC), die typischerweise mehr als 1 mm betragen, sind kritische Komponenten in verschiedenen hochwertigen Anwendungen, einschließlich der Halbleiterfertigung und der Luft- und Raumfahrttechnik. Dieser Artikel befasst sich mit dem Verfahren der chemischen Gas......
WeiterlesenDie chemische Gasphasenabscheidung (CVD) ist eine vielseitige Dünnschichtabscheidungstechnik, die in der Halbleiterindustrie häufig zur Herstellung hochwertiger, konformer Dünnschichten auf verschiedenen Substraten eingesetzt wird. Dieser Prozess beinhaltet chemische Reaktionen gasförmiger Vorläufer......
WeiterlesenDieser Artikel befasst sich mit der Verwendung und der zukünftigen Entwicklung von Siliziumkarbid-Schiffen (SiC) im Vergleich zu Quarz-Schiffen in der Halbleiterindustrie und konzentriert sich dabei insbesondere auf deren Anwendungen in der Solarzellenherstellung.
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