Im Prozess der Wafervorbereitung gibt es zwei Kernglieder: Zum einen die Vorbereitung des Substrats und zum anderen die Durchführung des Epitaxieprozesses. Das Substrat, ein Wafer, der sorgfältig aus Halbleiter-Einkristallmaterial hergestellt wird, kann direkt in den Wafer-Herstellungsprozess als Gr......
WeiterlesenDie chemische Gasphasenabscheidung (CVD) ist eine vielseitige Dünnschichtabscheidungstechnik, die in der Halbleiterindustrie häufig zur Herstellung hochwertiger, konformer Dünnschichten auf verschiedenen Substraten eingesetzt wird. Dieser Prozess beinhaltet chemische Reaktionen gasförmiger Vorläufer......
WeiterlesenSiliziummaterial ist ein festes Material mit bestimmten elektrischen Halbleitereigenschaften und physikalischer Stabilität und bietet Substratunterstützung für den nachfolgenden Herstellungsprozess integrierter Schaltkreise. Es ist ein Schlüsselmaterial für siliziumbasierte integrierte Schaltkreise.......
WeiterlesenDieser Artikel befasst sich mit der Verwendung und der zukünftigen Entwicklung von Siliziumkarbid-Schiffen (SiC) im Vergleich zu Quarz-Schiffen in der Halbleiterindustrie und konzentriert sich dabei insbesondere auf deren Anwendungen in der Solarzellenherstellung.
WeiterlesenDas epitaktische Waferwachstum mit Galliumnitrid (GaN) ist ein komplexer Prozess, bei dem häufig eine zweistufige Methode zum Einsatz kommt. Dieses Verfahren umfasst mehrere kritische Schritte, darunter Hochtemperaturbacken, Pufferschichtwachstum, Rekristallisation und Glühen. Durch die sorgfältige ......
Weiterlesen