Flüssigphasenepitaxie (LPE)-Reaktorsystem

Das Semicorex Flüssigphasenepitaxie (LPE)-Reaktorsystem ist ein innovatives Produkt, das eine hervorragende thermische Leistung, ein gleichmäßiges thermisches Profil und eine hervorragende Beschichtungshaftung bietet. Seine hohe Reinheit, Hochtemperatur-Oxidationsbeständigkeit und Korrosionsbeständigkeit machen es zur idealen Wahl für den Einsatz in der Halbleiterindustrie. Seine anpassbaren Optionen und seine Kosteneffizienz machen es zu einem äußerst wettbewerbsfähigen Produkt auf dem Markt.

Anfrage absenden

Produktbeschreibung

Unser Flüssigphasenepitaxie (LPE)-Reaktorsystem ist ein äußerst zuverlässiges und langlebiges Produkt mit einem hervorragenden Preis-Leistungs-Verhältnis. Seine Hochtemperatur-Oxidationsbeständigkeit, sein gleichmäßiges thermisches Profil und die Verhinderung von Kontamination machen es ideal für hochwertiges Epitaxieschichtwachstum. Seine geringen Wartungsanforderungen und Anpassbarkeit machen es zu einem äußerst wettbewerbsfähigen Produkt auf dem Markt.

Bei Semicorex konzentrieren wir uns darauf, unseren Kunden qualitativ hochwertige und kostengünstige Produkte anzubieten. Unser Flüssigphasenepitaxie (LPE)-Reaktorsystem hat einen Preisvorteil und wird in viele europäische und amerikanische Märkte exportiert. Unser Ziel ist es, Ihr langfristiger Partner zu sein, der gleichbleibende Qualitätsprodukte und außergewöhnlichen Kundenservice liefert.

Kontaktieren Sie uns noch heute, um mehr über unser Flüssigphasenepitaxie (LPE)-Reaktorsystem zu erfahren.

Parameter des Flüssigphasenepitaxie(LPE)-Reaktorsystems

Hauptspezifikationen der CVD-SIC-Beschichtung
SiC-CVD-Eigenschaften
Kristallstruktur	FCC β-Phase
Dichte	g/cm³	3.21
Härte	Vickers-Härte	2500
Körnung	Î¼m	2~10
Chemische Reinheit	%	99.99995
Wärmekapazität	J·kg –1 ·K –1	640
Sublimationstemperatur	℃	2700
Biegefestigkeit	MPa (RT 4-Punkt)	415
Elastizitätsmodul	Gpa (4pt Biegung, 1300â)	430
Wärmeausdehnung (CTE)	10-6K-1	4.5
Wärmeleitfähigkeit	(W/mK)	300

Merkmale des Flüssigphasenepitaxie-(LPE)-Reaktorsystems

- Sowohl das Graphitsubstrat als auch die Siliziumkarbidschicht haben eine gute Dichte und können eine gute schützende Rolle in Arbeitsumgebungen mit hohen Temperaturen und korrosiven Einflüssen spielen.

- Mit Siliziumkarbid beschichteter Suszeptor, der für die Einkristallzüchtung verwendet wird, hat eine sehr hohe Oberflächenebenheit.

- Reduzieren Sie den Unterschied im Wärmeausdehnungskoeffizienten zwischen dem Graphitsubstrat und der Siliziumkarbidschicht und verbessern Sie effektiv die Haftfestigkeit, um Risse und Delamination zu verhindern.

- Sowohl das Graphitsubstrat als auch die Siliziumkarbidschicht haben eine hohe Wärmeleitfähigkeit und ausgezeichnete Wärmeverteilungseigenschaften.

- Hoher Schmelzpunkt, Hochtemperatur-Oxidationsbeständigkeit, Korrosionsbeständigkeit.