Das Semicorex Liquid Phase Epitaxy (LPE) Reaktorsystem ist ein innovatives Produkt, das eine hervorragende thermische Leistung, ein gleichmäßiges thermisches Profil und eine hervorragende Beschichtungshaftung bietet. Seine hohe Reinheit, Oxidationsbeständigkeit bei hohen Temperaturen und Korrosionsbeständigkeit machen es zur idealen Wahl für den Einsatz in der Halbleiterindustrie. Seine anpassbaren Optionen und seine Kosteneffizienz machen es zu einem äußerst wettbewerbsfähigen Produkt auf dem Markt.
Unser Flüssigphasenepitaxie-Reaktorsystem (LPE) ist ein äußerst zuverlässiges und langlebiges Produkt mit einem hervorragenden Preis-Leistungs-Verhältnis. Seine Oxidationsbeständigkeit bei hohen Temperaturen, sein gleichmäßiges thermisches Profil und die Verhinderung von Verunreinigungen machen es ideal für das Wachstum hochwertiger Epitaxieschichten. Sein geringer Wartungsaufwand und seine Anpassbarkeit machen es zu einem äußerst wettbewerbsfähigen Produkt auf dem Markt.
Bei Semicorex konzentrieren wir uns darauf, unseren Kunden qualitativ hochwertige und kostengünstige Produkte anzubieten. Unser Flüssigphasenepitaxie-Reaktorsystem (LPE) hat einen Preisvorteil und wird in viele europäische und amerikanische Märkte exportiert. Unser Ziel ist es, Ihr langfristiger Partner zu sein, der gleichbleibende Qualitätsprodukte und außergewöhnlichen Kundenservice liefert.
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Parameter des Flüssigphasenepitaxie-Reaktorsystems (LPE).
Hauptspezifikationen der CVD-SIC-Beschichtung |
||
SiC-CVD-Eigenschaften |
||
Kristallstruktur |
FCC-β-Phase |
|
Dichte |
g/cm³ |
3.21 |
Härte |
Vickershärte |
2500 |
Körnung |
μm |
2~10 |
Chemische Reinheit |
% |
99.99995 |
Wärmekapazität |
J kg-1 K-1 |
640 |
Sublimationstemperatur |
℃ |
2700 |
Biegekraft |
MPa (RT 4-Punkt) |
415 |
Elastizitätsmodul |
Gpa (4-Punkt-Biegung, 1300 ℃) |
430 |
Wärmeausdehnung (C.T.E) |
10-6K-1 |
4.5 |
Wärmeleitfähigkeit |
(W/mK) |
300 |
Merkmale des Flüssigphasenepitaxie-Reaktorsystems (LPE).
- Sowohl das Graphitsubstrat als auch die Siliziumkarbidschicht weisen eine gute Dichte auf und können in Arbeitsumgebungen mit hohen Temperaturen und Korrosion eine gute Schutzfunktion spielen.
- Der mit Siliziumkarbid beschichtete Suszeptor, der für die Einkristallzüchtung verwendet wird, weist eine sehr hohe Oberflächenebenheit auf.
- Reduzieren Sie den Unterschied im Wärmeausdehnungskoeffizienten zwischen dem Graphitsubstrat und der Siliziumkarbidschicht und verbessern Sie effektiv die Haftfestigkeit, um Risse und Delaminierung zu verhindern.
- Sowohl das Graphitsubstrat als auch die Siliziumkarbidschicht verfügen über eine hohe Wärmeleitfähigkeit und hervorragende Wärmeverteilungseigenschaften.
- Hoher Schmelzpunkt, Oxidationsbeständigkeit bei hohen Temperaturen, Korrosionsbeständigkeit.