ICP-Plasma-Ätztablett

Unsere ICP-Plasmaätzschale ist im CVD-Verfahren mit Siliziumkarbid beschichtet, was die ideale Lösung für Wafer-Handling-Prozesse ist, die eine Hochtemperatur- und aggressive chemische Reinigung erfordern. Die Träger von Semicorex verfügen über eine feine SiC-Kristallbeschichtung, die gleichmäßige Wärmeprofile und laminare Gasströmungsmuster bietet und eine Kontamination oder Diffusion von Verunreinigungen verhindert.
Bei Semicorex konzentrieren wir uns darauf, unseren Kunden qualitativ hochwertige und kostengünstige Produkte anzubieten. Unser ICP-Plasmaätz-Tray hat einen Preisvorteil und wird in viele europäische und amerikanische Märkte exportiert. Unser Ziel ist es, Ihr langfristiger Partner zu sein, der gleichbleibende Qualitätsprodukte und außergewöhnlichen Kundenservice liefert.
Kontaktieren Sie uns noch heute, um mehr über unsere ICP-Plasmaätzschale zu erfahren.

Parameter des ICP-Plasmaätztabletts

Merkmale des ICP-Plasma-Ätztabletts

- Ablösen vermeiden und Beschichtung auf allen Oberflächen sicherstellen

Hochtemperatur-Oxidationsbeständigkeit: Stabil bei hohen Temperaturen bis zu 1600 °C

Hohe Reinheit: Hergestellt durch CVD-CVD unter Hochtemperatur-Chlorierungsbedingungen.

Korrosionsbeständigkeit: hohe Härte, dichte Oberfläche und feine Partikel.

Korrosionsbeständigkeit: Säure, Alkali, Salz und organische Reagenzien.

- Erzielen Sie das beste laminare Gasströmungsmuster

- Gewährleistung der Gleichmäßigkeit des thermischen Profils

- Verhindern Sie jegliche Kontamination oder Diffusion von Verunreinigungen