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Endeffektor für die Waferhandhabung

Endeffektor für die Waferhandhabung

Semicorex-Endeffektoren für die Wafer-Handhabung sind maßgenau und thermisch stabil für die Wafer-Verarbeitung. Wir sind seit vielen Jahren Hersteller und Lieferant von Siliziumkarbid-Beschichtungselementen. Unsere Produkte haben einen guten Preisvorteil und decken die meisten europäischen und amerikanischen Märkte ab. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.

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Produktbeschreibung

Semicorex-Endeffektoren für die Waferhandhabung sind maßgenau und thermisch stabil und verfügen über einen glatten, abriebfesten CVD-SiC-Beschichtungsfilm, um Wafer sicher zu handhaben, ohne Geräte zu beschädigen oder Partikelverunreinigungen zu erzeugen, die Halbleiterwafer zwischen Positionen in Waferverarbeitungsgeräten und Trägern bewegen können präzise und effizient. Unser Endeffektor mit hochreiner Siliziumkarbid (SiC)-Beschichtung für die Wafer-Handhabung bietet überragende Hitzebeständigkeit, gleichmäßige thermische Gleichmäßigkeit für eine gleichmäßige Epi-Schichtdicke und -beständigkeit sowie dauerhafte chemische Beständigkeit.

Bei Semicorex konzentrieren wir uns darauf, unseren Kunden qualitativ hochwertige und kostengünstige Produkte anzubieten. Unser Endeffektor für das Wafer-Handling hat einen Preisvorteil und wird in viele europäische und amerikanische Märkte exportiert. Unser Ziel ist es, Ihr langfristiger Partner zu sein, der gleichbleibende Qualitätsprodukte und außergewöhnlichen Kundenservice liefert.


Parameter des Endeffektors für die Waferhandhabung

Hauptspezifikationen der CVD-SIC-Beschichtung

SiC-CVD-Eigenschaften

Kristallstruktur

FCC-β-Phase

Dichte

g/cm³

3.21

Härte

Vickershärte

2500

Körnung

μm

2~10

Chemische Reinheit

%

99.99995

Wärmekapazität

J kg-1 K-1

640

Sublimationstemperatur

2700

Biegekraft

MPa (RT 4-Punkt)

415

Elastizitätsmodul

Gpa (4-Punkt-Biegung, 1300 ℃)

430

Wärmeausdehnung (C.T.E)

10-6K-1

4.5

Wärmeleitfähigkeit

(W/mK)

300


Merkmale des Endeffektors für die Waferhandhabung

Hochreine SiC-Beschichtung im CVD-Verfahren

Überragende Hitzebeständigkeit und thermische Gleichmäßigkeit

Feine SiC-Kristallbeschichtung für eine glatte Oberfläche

Hohe Beständigkeit gegen chemische Reinigung

Das Material ist so konzipiert, dass es nicht zu Rissen und Delaminationen kommt.




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